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1. (WO2018013205) METHODS OF FORMING AN ELEVATIONALLY EXTENDING CONDUCTOR LATERALLY BETWEEN A PAIR OF CONDUCTIVE LINES
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Pub. No.:    WO/2018/013205    International Application No.:    PCT/US2017/032134
Publication Date: 18.01.2018 International Filing Date: 11.05.2017
IPC:
H01L 27/108 (2006.01)
Applicants: MICRON TECHNOLOGY, INC. [US/US]; MS 1-525 8000 South Federal Way Boise, ID 83716 (US)
Inventors: YANG, Guangjun; (US).
BENSON, Russell A.; (US).
GILGEN, Brent; (US).
SCHRINSKY, Alex J.; (US).
TANG, Sanh, D.; (US).
LEE, Si-Woo; (US)
Agent: MATKIN, Mark S.; (US).
SHAURETTE, James, D.; (US).
GRZELAK, Keith, D.; (US).
MATKIN, Mark, S.; (US).
LATWESEN, David, G.; (US)
Priority Data:
15/210,511 14.07.2016 US
Title (EN) METHODS OF FORMING AN ELEVATIONALLY EXTENDING CONDUCTOR LATERALLY BETWEEN A PAIR OF CONDUCTIVE LINES
(FR) PROCÉDÉS DE FORMATION D'UN CONDUCTEUR S'ÉTENDANT EN ÉLÉVATION LATÉRALEMENT ENTRE UNE PAIRE DE LIGNES CONDUCTRICES
Abstract: front page image
(EN)A method of forming an elevationally extending conductor laterally between a pair of conductive lines comprises forming a pair of conductive lines spaced from one another in at least one vertical cross-section. Conductor material is formed to elevationally extend laterally between and cross elevationally over the pair of conductive lines in the at least one vertical cross-section. Sacrificial material is laterally between the elevationally extending conductor material and each of the conductive lines of the pair in the at least one vertical cross-section. The sacrificial material is removed from between the elevationally extending conductor material and each of the conductive lines of the pair while the conductor material is crossing elevationally over the pair of conductive lines to form a void space laterally between the elevationally extending conductor material and each of the conductive lines of the pair in the at least one vertical cross-section.
(FR)L'invention concerne un procédé de formation d'un conducteur s'étendant en élévation latéralement entre une paire de lignes conductrices qui consiste à former une paire de lignes conductrices séparées l'une de l'autre dans au moins une section transversale verticale. Du matériau conducteur est formé pour s'étendre en élévation latéralement entre la paire de lignes conductrices et en élévation croisée au-dessus de ladite paire de lignes conductrices dans la ou les sections transversales verticales. Du matériau sacrificiel est situé latéralement entre le matériau conducteur s'étendant en élévation et chacune des lignes conductrices de la paire dans la ou les sections transversales verticales. Le matériau sacrificiel est retiré d'entre le matériau conducteur s'étendant en élévation et chacune des lignes conductrices de la paire tandis que le matériau conducteur traverse en élévation au-dessus de la paire de lignes conductrices pour former un espace vide latéralement entre le matériau conducteur s'étendant en élévation et chacune des lignes conductrices de la paire dans la ou les sections transversales verticales.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)