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1. (WO2018013153) COMPLIANT WEARABLE PATCH CAPABLE OF MEASURING ELECTRICAL SIGNALS
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Pub. No.:    WO/2018/013153    International Application No.:    PCT/US2016/047526
Publication Date: 18.01.2018 International Filing Date: 18.08.2016
IPC:
A61B 5/0408 (2006.01), H04B 1/38 (2015.01), H05K 1/14 (2006.01)
Applicants: VIVALNK, INC. [US/US]; 4655 Old Ironsides Drive, Suite 390 Santa Clara, CA 95054 (US).
LI, Jiang [US/US]; (US) (For All Designated States Except US).
MEI, Junfeng [CN/US]; (US) (For All Designated States Except US).
WANG, Zhigang [US/US]; (US) (For All Designated States Except US)
Inventors: LI, Jiang; (US).
MEI, Junfeng; (US).
WANG, Zhigang; (US)
Agent: WEN, Xin; (US)
Priority Data:
15/209,392 13.07.2016 US
Title (EN) COMPLIANT WEARABLE PATCH CAPABLE OF MEASURING ELECTRICAL SIGNALS
(FR) PATCH PORTABLE SOUPLE CAPABLE DE MESURER DES SIGNAUX ÉLECTRIQUES
Abstract: front page image
(EN)A wearable patch capable of wireless communications includes an elastic layer, an adhesive layer under the elastic layer, and a shearable electrode layer that includes: a support substrate comprising one or more openings so positioned to allow the shearable electrode layer to be sheared and elongated, and breathable, an upper electrode layer on the support substrate, and a lower electrode layer under the support substrate. The support substrate can include a via that is conductively connected to the upper electrode layer and the lower electrode layer. The lower electrode can be in contact with a user's body and to pick up electric signals from the user's body.
(FR)La présente invention concerne un patch portable capable de communications sans fil qui comprend une couche élastique, une couche adhésive sous la couche élastique, et une couche d’électrode cisaillable qui comprend : un substrat de support comprenant une ou plusieurs ouvertures positionnées de façon à permettre à la couche d’électrode cisaillable d’être cisaillée et allongée, et respirable, une couche d’électrode supérieure sur le substrat de support, et une couche d’électrode inférieure sous le substrat de support. Le substrat de support peut comprendre un trou d’interconnexion qui est connecté de façon conductrice à la couche d’électrode supérieure et à la couche d’électrode inférieure. L’électrode inférieure peut être en contact avec le corps d’un utilisateur et collecter des signaux électriques provenant du corps de l’utilisateur.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)