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1. (WO2018012472) RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD
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Pub. No.:    WO/2018/012472    International Application No.:    PCT/JP2017/025189
Publication Date: 18.01.2018 International Filing Date: 10.07.2017
IPC:
G03F 7/039 (2006.01), C08F 220/10 (2006.01), G03F 7/038 (2006.01)
Applicants: JSR CORPORATION [JP/JP]; 9-2, Higashi-Shinbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058640 (JP)
Inventors: SHIRATANI Motohiro; (JP).
MIYATA Hiromu; (JP).
NARUOKA Takehiko; (JP)
Agent: AMANO Kazunori; (JP)
Priority Data:
2016-137489 12.07.2016 JP
Title (EN) RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE À UN RAYONNEMENT ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF DE RÉSERVE
(JA) 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法
Abstract: front page image
(EN)The present invention is a radiation sensitive resin composition which contains a polymer, a radiation sensitive acid generator and a solvent, and wherein the polymer has a first structural unit that contains a first acid-cleavable group represented by formula (A) and an oxo acid group protected by the first acid-cleavable group or a phenolic hydroxyl group protected by the first acid-cleavable group, and a second structural unit that contains a second acid-cleavable group other than the first acid-cleavable group and an oxo acid group protected by the second acid-cleavable group or a phenolic hydroxyl group protected by the second acid-cleavable group. In formula (A), R1 represents a single bond or a divalent hydrocarbon group having 1-20 carbon atoms, which is unsubstituted or substituted by a hydroxy group, an amino group, a cyano group, a nitro group or a fluorine atom; X represents a carbonyl group, a sulfonyl group, a sulfonyloxy group, -O- or -S-; each of R2 and R3 represents a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1-20 carbon atoms; and n represents an integer of 1-3.
(FR)La présente invention concerne une composition de résine sensible à un rayonnement qui contient un polymère, un générateur d'acide sensible à un rayonnement et un solvant, et le polymère ayant une première unité structurale qui contient un premier groupe clivable par un acide représenté par la formule (A) et un groupe oxo-acide protégé par le premier groupe clivable par un acide ou un groupe hydroxyle phénolique protégé par le premier groupe clivable par un acide, et une seconde unité structurale qui contient un second groupe clivable par un acide autre que le premier groupe clivable par un acide et un groupe oxo-acide protégé par le second groupe clivable par un acide ou un groupe hydroxyle phénolique protégé par le second groupe clivable par un acide. Dans la formule (A), R1 représente une liaison simple ou un groupe hydrocarboné divalent ayant de 1 à 20 atomes de carbone, qui est non substitué ou substitué par un groupe hydroxy, un groupe amino, un groupe cyano, un groupe nitro ou un atome de fluor ; X représente un groupe carbonyle, un groupe sulfonyle, un groupe sulfonyloxy, -O- ou -S - ; R2 et R3 représentent chacun un groupe hydrocarboné monovalent substitué ou non substitué ayant de 1 à 20 atomes de carbone ; et n représente un nombre entier de 1 à 3.
(JA)本発明は、重合体と、感放射線性酸発生体と、溶媒とを含有し、上記重合体が、式(A)で表される第1酸解離性基、及びこの第1酸解離性基により保護されたオキソ酸基又は第1酸解離性基により保護されたフェノール性水酸基を含む第1構造単位と、第1酸解離性基以外の酸解離性基である第2酸解離性基、及びこの第2酸解離性基により保護されたオキソ酸基又は第2酸解離性基により保護されたフェノール性水酸基を含む第2構造単位とを有する感放射線性樹脂組成物である。式(A)中、Rは、単結合又はヒドロキシ基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基若しくはフッ素原子による置換若しくは非置換の炭素数1~20の2価の炭化水素基である。Xはカルボニル基、スルホニル基、スルホニルオキシ基、-O-、又は-S-である。R及びRは、置換又は非置換の炭素数1~20の1価の炭化水素基である。nは、1~3の整数である。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)