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Pub. No.:    WO/2018/012343    International Application No.:    PCT/JP2017/024378
Publication Date: 18.01.2018 International Filing Date: 03.07.2017
B05D 5/00 (2006.01), B05D 7/24 (2006.01), B29C 59/02 (2006.01), B32B 3/30 (2006.01), B32B 5/14 (2006.01), B32B 27/16 (2006.01), B32B 27/18 (2006.01), C08J 7/18 (2006.01)
Applicants: SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522 (JP).
DAIKIN INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; Umeda Center Building, 4-12, Nakazaki-Nishi 2-Chome, Kita-ku, Osaka-Shi, Osaka 5308323 (JP)
Inventors: HAYASHI, Hidekazu; (--).
TAGUCHI, Tokio; (--).
NAKAMATSU, Kenichiro; (--).
SHIBAI, Yasuhiro; (--).
ATSUMO, Ken; (--).
YAMASHITA, Tsuneo; (JP).
NII, Saya; (JP).
ARAKI, Takayuki; (JP)
Agent: YASUTOMI & ASSOCIATES; 5-36, Miyahara 3-chome, Yodogawa-ku, Osaka-shi, Osaka 5320003 (JP)
Priority Data:
2016-137935 12.07.2016 JP
(JA) 防汚性フィルムの製造方法
Abstract: front page image
(EN)The present invention provides a method for producing an antifouling film exhibiting excellent antifouling properties, said method being capable of producing the antifouling film continuously for a long period of time. This method for producing an antifouling film provided with a polymer layer having, provided to the surface, a relief structure in which a plurality of protrusions are provided at a pitch equal to or smaller than the wavelengths of visible light, includes: a process (1) in which a resin is applied to the surface of a substrate; a process (2) in which a second mould release agent is applied to the surface of a mould to which a first mould release agent has been applied; a process (3) in which the substrate is pressed against the surface of the mould to which the second mould release agent has been applied, such that the resin is sandwiched therebetween, to form the relief structure in the surface of the resin; and a process (4) in which the resin having the relief structure provided to the surface is cured to form the polymer layer. The resin includes an antifouling agent including a prescribed compound. The first mould release agent includes a prescribed compound. The second mould release agent includes a prescribed compound.
(FR)La présente invention concerne un procédé de production d'un film antisalissure présentant d'excellentes propriétés antisalissure, ledit procédé pouvant produire le film antisalissure en continu pendant une longue période de temps. Ce procédé de production d'un film antisalissure muni d'une couche de polymère présentant, à la surface, une structure en relief dans laquelle une pluralité de saillies sont disposées à un pas égal ou inférieur aux longueurs d'onde de la lumière visible, comprend : un procédé (1) dans lequel une résine est appliquée sur la surface d'un substrat ; un procédé (2) dans lequel un deuxième agent de démoulage est appliqué à la surface d'un moule sur lequel un premier agent de démoulage a été appliqué ; un procédé (3) dans lequel le substrat est pressé contre la surface du moule sur lequel le deuxième agent de démoulage a été appliqué, de telle sorte que la résine est prise en sandwich entre les deux, pour former la structure en relief à la surface de la résine ; et un procédé (4) dans lequel la résine présentant la structure en relief appliquée sur la surface est durcie pour former la couche de polymère. La résine comprend un agent antisalissure comprenant un composé prescrit. Le premier agent de démoulage comprend un composé prescrit. Le deuxième agent de démoulage comprend un composé prescrit.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)