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1. (WO2018012340) ANTIFOULING FILM
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Pub. No.: WO/2018/012340 International Application No.: PCT/JP2017/024370
Publication Date: 18.01.2018 International Filing Date: 03.07.2017
IPC:
B05D 5/00 (2006.01) ,B29C 59/02 (2006.01) ,B32B 3/30 (2006.01) ,B32B 5/14 (2006.01) ,B32B 27/16 (2006.01) ,B32B 27/18 (2006.01) ,C08J 7/18 (2006.01)
Applicants: SHARP KABUSHIKI KAISHA[JP/JP]; 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522, JP
Inventors: HAYASHI, Hidekazu; --
NIINOH, Atsushi; --
Agent: YASUTOMI & ASSOCIATES; 5-36, Miyahara 3-chome, Yodogawa-ku, Osaka-shi, Osaka 5320003, JP
Priority Data:
2016-13792412.07.2016JP
Title (EN) ANTIFOULING FILM
(FR) FILM ANTISALISSURE
(JA) 防汚性フィルム
Abstract: front page image
(EN) The present invention provides an antifouling film exhibiting excellent antifouling properties and scuff resistance. This antifouling film is provided with a polymer layer having, provided to the surface, a relief structure in which a plurality of protrusions are provided at a pitch equal to or smaller than the wavelengths of visible light. The polymer layer includes, as constituent atoms, carbon atoms, nitrogen atoms, oxygen atoms, and fluorine atoms. The ratio of the number of fluorine atoms to the total number of carbon atoms, nitrogen atoms, oxygen atoms, and fluorine atoms, as measured using X-ray photoelectron spectroscopy, is at least 33 atom% in the surface of the relief structure, and is not more than 3 atom% on average in an area 90-120 nm away from the surface of the relief structure in the depth direction. The ratio of the number of nitrogen atoms to the total number of carbon atoms, nitrogen atoms, oxygen atoms, and fluorine atoms, as measured using X-ray photoelectron spectroscopy, is not more than 4 atom% on average in the area 90-120 nm away from the surface of the relief structure in the depth direction.
(FR) La présente invention concerne un film antisalissure présentant d'excellentes propriétés antisalissures et une excellente résistance aux éraflures. Ce film antisalissure présente une couche polymère ayant, disposée en surface, une structure en relief dans laquelle une pluralité de saillies sont disposées à un pas égal ou inférieur aux longueurs d'onde de la lumière visible. La couche polymère comprend, en tant qu'atomes constitutifs, des atomes de carbone, des atomes d'azote, des atomes d'oxygène et des atomes de fluor. Le rapport entre le nombre d'atomes de fluor et le nombre total d'atomes de carbone, d'atomes d'azote, d'atomes d'oxygène et d'atomes de fluor, tel que mesuré à l'aide d'une spectroscopie photoélectronique à rayons X, est d’au moins 33 % atomique dans la surface de la structure en relief, et n'est pas supérieur à 3 % atomique en moyenne dans une zone de 90 à 120 nm à l'écart de la surface de la structure en relief dans le sens de la profondeur. Le rapport entre le nombre d'atomes d'azote et le nombre total d'atomes de carbone, d'atomes d'azote, d'atomes d'oxygène et d'atomes de fluor, tel que mesuré à l'aide d'une spectroscopie photoélectronique à rayons X, n'est pas supérieur à 4 % atomique en moyenne dans la zone de 90 à 120 nm à l'écart de la surface de la structure en relief dans le sens de la profondeur.
(JA) 本発明は、防汚性及び耐擦性に優れた防汚性フィルムを提供する。本発明は、複数の凸部が可視光の波長以下のピッチで設けられる凹凸構造を表面に有する重合体層を備える防汚性フィルムであって、上記重合体層は、炭素原子、窒素原子、酸素原子、及び、フッ素原子を構成原子として含み、X線光電子分光法によって測定される、炭素原子の数、窒素原子の数、酸素原子の数、及び、フッ素原子の数の合計数に対するフッ素原子の数の比率は、上記凹凸構造の表面において33atom%以上であり、上記凹凸構造の表面から深さ方向に90~120nm離れた領域の平均において3atom%以下であり、X線光電子分光法によって測定される、炭素原子の数、窒素原子の数、酸素原子の数、及び、フッ素原子の数の合計数に対する窒素原子の数の比率は、上記凹凸構造の表面から深さ方向に90~120nm離れた領域の平均において4atom%以下である防汚性フィルムである。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)