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1. (WO2018011466) DEVICE AND METHOD FOR MEASURING AN OPTICAL THICKNESS OF A LAYER
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Pub. No.: WO/2018/011466 International Application No.: PCT/FI2017/050524
Publication Date: 18.01.2018 International Filing Date: 07.07.2017
IPC:
G01B 9/02 (2006.01) ,G01B 11/06 (2006.01) ,A61B 3/10 (2006.01)
Applicants: PHOTONO OY[FI/FI]; c/o Kontiola Elontie 27 C 00660 Helsinki, FI
Inventors: KASSAMAKOV, Ivan; FI
MONTONEN, Risto; FI
HÆGGSTRÖM, Edward; FI
KONTIOLA, Antti; FI
SALMI, Ari; FI
Agent: FINNPATENT OY; Smart Chemistry Park Raisionkaari 55 21200 RAISIO, FI
Priority Data:
2016557611.07.2016FI
Title (EN) DEVICE AND METHOD FOR MEASURING AN OPTICAL THICKNESS OF A LAYER
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ POUR MESURER L'ÉPAISSEUR OPTIQUE D'UNE COUCHE
Abstract: front page image
(EN) A device for measuring an optical thickness of a layer (110)consisting of one or more materials comprises a measurement section (103) for producing measurement results based on interference between optical waves reflected from the layer and optical waves reflected from a reference reflector (102). The device comprises a modifier section (104) for changing the optical length of a reference optical path comprising the reference reflector and/or the optical length of a measurement optical path comprising the layer. The optical thickness is estimated based on: a first measurement result indicative of a position of a first surface of the layer and measured with a first value of the optical length, a second measurement result indicative of a position of the second surface of the layer and measured with a second value of the optical length, and a difference between the first and second values of the optical length.
(FR) La présente invention concerne un dispositif pour mesurer l'épaisseur optique d'une couche (110) constituée d'un ou de plusieurs matériaux. Ledit dispositif comprend une section de mesure (103) pour produire des résultats de mesure en fonction d'une interférence entre des ondes optiques réfléchies à partir de la couche et des ondes optiques réfléchies à partir d'un réflecteur de référence (102). Le dispositif comprend une section de modification (104) pour changer la longueur optique d'un trajet optique de référence qui comprend le réflecteur de référence et/ou la longueur optique d'un trajet optique de mesure qui comprend la couche. L'épaisseur optique est estimée en fonction : d'un premier résultat de mesure indiquant une position d'une première surface de la couche et mesuré avec une première valeur de la longueur optique, un second résultat de mesure indiquant une position de la seconde surface de la couche et mesuré avec une seconde valeur de la longueur optique, et une différence entre les première et seconde valeurs de la longueur optique.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)