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1. (WO2018011151) BROADBAND OPTICAL MONITORING
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Pub. No.:    WO/2018/011151    International Application No.:    PCT/EP2017/067293
Publication Date: 18.01.2018 International Filing Date: 10.07.2017
IPC:
C23C 14/54 (2006.01), C23C 16/52 (2006.01), G01B 11/06 (2006.01)
Applicants: EVATEC AG [CH/CH]; Hauptstrasse 1a 9477 Trübbach (CH)
Inventors: WALDNER, Stephan; (CH)
Agent: TROESCH SCHEIDEGGER WERNER AG; Jacques Troesch Schwäntenmos 14 8126 Zumikon (CH)
Priority Data:
00890/16 13.07.2016 CH
Title (EN) BROADBAND OPTICAL MONITORING
(FR) SURVEILLANCE OPTIQUE À LARGE BANDE
Abstract: front page image
(EN)A method of in situ monitoring a thin film deposition process on a substrate, the method comprising the steps of a) defining 10 a desired spectrum T, said desired spectrum being a transmission or a reflection spectrum defined in a range of wavelengths; b) at least once: b1) illuminating 21 said substrate by means of a light source emitting light at least within said range of wavelengths, b2) receiving 22 light reflected from said substrate or transmitted through said substrate, b3) determining 23 at least one of at least one of a transmission and of a reflection spectrum out of said received light within said range of wavelengths; c) defining a spectrum or a combination of spectra in dependency of said at least one spectrum determined in step b3) to be a current spectrum C; d) determining 30 a weight spectrum W as a function of at least said current spectrum C; e) calculating 40 a real number K as a function of said current spectrum C, of said desired spectrum T and of said weight spectrum W; f) exploiting 45 said real number K as indication for a deviation of said current spectrum C from said desired spectrum T.
(FR)La présente invention concerne un procédé de surveillance in situ d’un processus de dépôt de couche mince sur un substrat, le procédé comprenant les étapes de a) définition 10 d’un spectre souhaité T, ledit spectre souhaité étant un spectre de transmission ou de réflexion défini dans une plage de longueurs d’onde ; b) au moins une fois : b1) éclairage 21 dudit substrat au moyen d’une source de lumière émettant de la lumière au moins dans ladite plage de longueurs d’onde, b2) réception 22 de la lumière réfléchie par ledit substrat ou transmise à travers ledit substrat, b3) détermination 23 d’au moins l’un d’un spectre de transmission et de réflexion de ladite lumière reçue dans ladite plage de longueurs d’onde ; c) définition d’un spectre ou une combinaison de spectres en fonction dudit au moins un spectre déterminé dans l’étape b3) de façon à être un spectre actuel C ; d) détermination 30 d’un spectre pondéré W en fonction d’au moins ledit spectre actuel C ; e) calcul 40 d’un nombre réel K en fonction dudit spectre actuel C, dudit spectre souhaité T et dudit spectre pondéré W ; f) exploitation 45 dudit nombre réel K en tant qu’indication d’un écart dudit spectre actuel C par rapport audit spectre souhaité T.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)