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1. (WO2018010439) INDIUM TIN OXIDE FILM, METHOD FOR PREPARING SAME, ARRAY SUBSTRATE COMPRISING SAME, AND DISPLAY DEVICE
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Pub. No.:    WO/2018/010439    International Application No.:    PCT/CN2017/074765
Publication Date: 18.01.2018 International Filing Date: 24.02.2017
IPC:
C23C 14/28 (2006.01), C23C 14/35 (2006.01), C23C 14/08 (2006.01), H01L 27/12 (2006.01), H01L 21/77 (2017.01)
Applicants: BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD. [CN/CN]; No. 10 Jiuxianqiao Rd., Chaoyang District Beijing 100015 (CN).
HEFEI BOE DISPLAY LIGHTING CO., LTD. [CN/CN]; No. 668 New Bengbu Road and Longzihu Road Intersection, Xinzhan Park Hefei, Anhui 230012 (CN)
Inventors: ZHANG, Qiping; (CN).
SUN, Wenbo; (CN).
QIAN, Yejia; (CN)
Agent: CHINA SCIENCE PATENT & TRADEMARK AGENT LTD.; Suite 4-1105 No. 87 West 3rd Ring North Rd. Haidian District, Beijing 100089 (CN)
Priority Data:
201610545577.X 12.07.2016 CN
Title (EN) INDIUM TIN OXIDE FILM, METHOD FOR PREPARING SAME, ARRAY SUBSTRATE COMPRISING SAME, AND DISPLAY DEVICE
(FR) FILM D'OXYDE D'ÉTAIN ET D'INDIUM, PROCÉDÉ POUR LE FABRIQUER, SUBSTRAT DE RÉSEAU LE COMPRENANT ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE
(ZH) 氧化铟锡薄膜及其制备方法、含其的阵列基板和显示装置
Abstract: front page image
(EN)An indium tin oxide film (7), a method for preparing same, an array substrate comprising the indium tin oxide film (7), and a display device comprising the array substrate. The method for preparing the indium tin oxide film (7) comprises: providing discrete indium oxide target (5), tin target (6) and matrix (4) in a deposition chamber; generating oxygen particles and indium particles (51) from the target surface of the indium oxide target (5), and generating tin particles (61) from the target surface of the tin target (6); and depositing the oxygen particles, the indium particles, and the tin particles (61) on the surface of the matrix to form the indium tin oxide film (7).
(FR)L'invention porte sur un film d'oxyde d'étain et d'indium (7), sur un procédé pour le fabriquer, sur un substrat de réseau comprenant le film d'oxyde d'étain et d'indium (7) et sur un dispositif d'affichage comprenant le substrat de réseau. Le procédé de préparation du film d'oxyde d'étain et d'indium (7) consiste : à fournir une cible d'oxyde d'indium (5), une cible d'étain (6) et une matrice (4) distinctes dans une chambre de dépôt ; à générer des particules d'oxygène et des particules d'indium (51) à partir de la surface cible de la cible d'oxyde d'indium (5) et à générer des particules d'étain (61) à partir de la surface cible de la cible d'étain (6) ; et à déposer les particules d'oxygène, les particules d'indium et les particules d'étain (61) sur la surface de la matrice pour former le film d'oxyde d'étain et d'indium (7).
(ZH)一种氧化铟锡薄膜(7)及其制备方法、包含氧化铟锡薄膜(7)的阵列基板和包含阵列基板的显示装置。氧化铟锡薄膜(7)的制备方法包括:在沉积腔室中提供分立的氧化铟靶材(5)、锡靶材(6)和基体(4);由氧化铟靶材(5)的靶面产生氧粒子和铟粒子(51),同时由锡靶材(6)的靶面产生锡粒子(61);以及使氧粒子、铟粒子和锡粒子(61)在基体的表面上沉积,以形成氧化铟锡薄膜(7)。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)