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1. (WO2018008610) PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING POLYMER, METHOD FOR PRODUCING PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING LAMINATE
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Pub. No.: WO/2018/008610 International Application No.: PCT/JP2017/024403
Publication Date: 11.01.2018 International Filing Date: 03.07.2017
IPC:
C08F 220/24 (2006.01) ,C08F 220/28 (2006.01) ,C08F 220/32 (2006.01) ,G03F 7/039 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: AGC INC.[JP/JP]; 5-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008405, JP
Inventors: OBI Masaki; JP
SASAKI Miyako; JP
Agent: SENMYO Kenji; JP
OGAWA Toshiharu; JP
Priority Data:
2016-13641408.07.2016JP
2016-13641508.07.2016JP
2017-09077928.04.2017JP
Title (EN) PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING POLYMER, METHOD FOR PRODUCING PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING LAMINATE
(FR) COMPOSITION PHOTOSENSIBLE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN POLYMÈRE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UNE COMPOSITION PHOTOSENSIBLE, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN STRATIFIÉ
(JA) 感光性組成物、重合体の製造方法、感光性組成物の製造方法、積層体の製造方法
Abstract:
(EN) Provided are: a photosensitive composition which is capable of forming a liquid repellent coating film that is free from coating unevenness; a method for producing this photosensitive composition; a method for producing a polymer which enables the formation of a liquid repellent coating film that is free from coating unevenness when used in a photosensitive composition; and a method for producing a laminate with use of this photosensitive composition. A photosensitive composition which contains at least one of the resin P1 and the resin P2 described below, and a photoinitiator. Resin P1: A resin that is formed of a polymer A which has a unit u1 having an organic group that has one or more fluorine atoms, a unit u2 having a crosslinkable group, and a terminal group represented by one of formula 1, formula 2 and formula 3 shown below. Resin P2: A resin that is formed of a polymer B which has the unit u1 but is not the polymer A and a polymer C which has the unit u2 but is not the polymer A, provided that at least one of the polymer B and the polymer C has the terminal group. -X1-C(R1)(R2)(R3) Formula 1 -X2-R4 Formula 2 -X3-N(R5)(R6) Formula 3
(FR) L'invention concerne : une composition photosensible qui est capable de former un film de revêtement repoussant les liquides qui est dénué d'irrégularités de revêtement; un procédé de production de ladite composition photosensible; un procédé de production d'un polymère qui permet la formation d'un film de revêtement repoussant les liquides qui est dénué d'irrégularités de revêtement quand il est utilisé dans une composition photosensible; et un procédé de production d'un stratifié à l'aide de ladite composition photosensible. Une composition photosensible qui contient au moins l'une des résines P1 et/ou P2 décrites ci-dessous, et un photoinitiateur est en outre décrite. Résine P1 : résine qui est formée d'un polymère A qui contient un motif u1 ayant un groupe organique comportant un ou plusieurs atomes de fluor, un motif u2 contenant un groupe réticulable, et un groupe terminal représenté par l'une des formule 1, formule 2 et formule 3 présentées ci-dessous. Résine P2 : résine qui est formée d'un polymère B qui contient le motif u1 mais n'est pas le polymère A et d'un polymère C qui contient le motif u2 mais n'est pas le polymère A, à condition qu'au moins un dudit polymère B et dudit polymère C comporte le groupe terminal. -X1-C(R1)(R2)(R3) Formule 1 -X2-R4 Formule 2 -X3-N(R5)(R6) Formule 3
(JA) 塗布ムラのない撥液性の塗膜を形成できる感光性組成物及びその製造方法、感光性組成物に用いたときに塗布ムラのない撥液性の塗膜を形成できる重合体の製造方法、並びに該感光性組成物を用いた積層体の製造方法の提供。 下記樹脂P1及び下記樹脂P2の少なくとも一方と、光開始剤と、を含む感光性組成物。樹脂P1:フッ素原子を1つ以上有する有機基を有する単位u1と、架橋基を有する単位u2とを有し、下式1、下式2及び下式3のいずれかで表される末端基を有する重合体Aからなる樹脂。樹脂P2:前記単位u1を有する、前記重合体A以外の重合体Bと、前記単位u2を有する、前記重合体A以外の重合体Cとからなり、前記重合体B及び前記重合体Cの少なくとも一方が、前記末端基を有する樹脂。-X-C(R)(R)(R)・・・1、-X-R・・・2、-X-N(R)(R)・・・3
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)