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1. (WO2018007211) SYSTEM FOR INTERFEROMETRICALLY MEASURING THE IMAGING QUALITY OF AN ANAMORPHIC PROJECTION LENS
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Pub. No.: WO/2018/007211 International Application No.: PCT/EP2017/065889
Publication Date: 11.01.2018 International Filing Date: 27.06.2017
IPC:
G01B 9/02 (2006.01) ,G01M 11/00 (2006.01) ,G01M 11/02 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,G01J 9/02 (2006.01)
Applicants: CARL ZEISS SMT GMBH[DE/DE]; Rudolf-Eber-Str. 2 73447 Oberkochen, DE
Inventors: WEGMANN, Ulrich; DE
Agent: PATENTANWÄLTE RUFF, WILHELM, BEIER, DAUSTER & PARTNER MBB; Kronenstraße 30 70174 Stuttgart, DE
Priority Data:
10 2016 212 477.308.07.2016DE
Title (EN) SYSTEM FOR INTERFEROMETRICALLY MEASURING THE IMAGING QUALITY OF AN ANAMORPHIC PROJECTION LENS
(FR) SYSTÈME DE MESURE PAR INTERFÉROMÉTRIE DE LA QUALITÉ DE FORMATION D'IMAGE D'UNE LENTILLE DE PROJECTION ANAMORPHIQUE
Abstract: front page image
(EN) A measuring method and a measuring system for interferometrically measuring the imaging quality of an optical imaging system are configured, by adapted design of measurement structures of associated structure carriers, to carry out a wavefront measurement on an imaging system which has a first imaging scale β1 in a first direction and a second imaging scale β2 in a second direction, perpendicular to the first direction, said second imaging scale differing from the first imaging scale by a scale ratio (β1/ β2) ≠ 1 (anamorphic imaging system). A first measurement structure (MS1) on a first structure carrier to be arranged on the object side of the imaging system has a two-dimensional mask structure suitable for shaping the coherence of measurement radiation. A second measurement structure (MS2) on a second structure carrier to be arranged on the image side of the imaging system has a diffraction grating. The first and second measurement structures are adapted to one another taking account of the scale ratio in such a way that an interference pattern arises upon an imaging of the first measurement structure (MS1) onto the second measurement structure (MS2) with the aid of the anamorphic imaging system.
(FR) L'invention concerne la configuration d'un procédé et d'un système de mesure destinés à la mesure par interférométrie de la qualité de formation d'image d'un système optique de formation d'image, au moyen d'une conception adaptée de structures de mesure de supports de structure associés, à des fins d'exécution d'une mesure de front d'onde sur un système de formation d'image qui possède une première échelle de formation d'image β 1 dans une première direction et une seconde échelle de formation d'image β 2 dans une seconde direction, perpendiculaire à la première direction, cette seconde échelle de formation d'image différant de la première échelle de formation d'image d'un rapport d'échelle (β 1 2 ) ≠ 1 (système d'imagerie anamorphique). Une première structure de mesure (MS1) située sur un premier support de structure devant être agencé du côté objet du système de formation d'image présente une structure de masque bidimensionnelle conçue pour mettre en forme la cohérence du rayonnement de mesure. Une seconde structure de mesure (MS2) située sur un second support de structure devant être agencé du côté image du système de formation d'image comprend un réseau de diffraction. Les première et seconde structures de mesure sont adaptées l'une à l'autre, compte-tenu du rapport d'échelle, de telle manière qu'un motif d'interférence se produit lors d'une formation d'image de la première structure de mesure (MS1) sur la seconde structure de mesure (MS2) à l'aide du système de formation d'image anamorphique.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)