WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2018006914) METHOD FOR RESTORING DAMAGED ELECTRONIC DEVICES BY CLEANING AND APPARATUS THEREFOR
Latest bibliographic data on file with the International Bureau    Submit observation

Pub. No.: WO/2018/006914 International Application No.: PCT/DK2017/050213
Publication Date: 11.01.2018 International Filing Date: 27.06.2017
Chapter 2 Demand Filed: 04.05.2018
IPC:
B08B 3/12 (2006.01) ,F26B 3/00 (2006.01) ,F26B 5/04 (2006.01)
Applicants: TECHSAVE A/S[DK/DK]; Galgemosevej 32 7500 Holstebro, DK
Inventors: TEDDE, Jonas; DK
LETH, Henrik; DK
Agent: PATRADE A/S; Ceresbyen 75 8000 Aarhus C, DK
Priority Data:
PA 2016 7050706.07.2016DK
Title (EN) METHOD FOR RESTORING DAMAGED ELECTRONIC DEVICES BY CLEANING AND APPARATUS THEREFOR
(FR) PROCÉDÉ DE RESTAURATION PAR NETTOYAGE DE DISPOSITIFS ÉLECTRONIQUES ENDOMMAGÉS ET APPAREIL ASSOCIÉ
Abstract: front page image
(EN) A method and apparatus for regenerating damaged electronic device by a least one cleaning process and a least one drying process, by submerging one or more electronic devices into an aqueous cleaning liquid in a cleaning chamber (1), and subjecting the aqueous cleaning liquid and the one or more electronic devices to sonication. Drying of the one or more electronic devices is done by periodically heating the cleaning chamber (1) while subjecting the cleaning chamber to reduced pressure and where the cleaning and the drying are carried out in the same cleaning chamber. We hereby achieve a thorough cleaning and restoration of a damaged electronic device.
(FR) L'invention concerne un procédé et un appareil pour la régénération d'un dispositif électronique endommagé, par au moins un processus de nettoyage et au moins un processus de séchage qui consistent à immerger un ou plusieurs dispositifs électroniques dans un liquide de nettoyage aqueux dans une chambre de nettoyage (1), et à soumettre le liquide de nettoyage aqueux et ledit dispositif électronique à un traitement par sonication. Le séchage du ou des dispositifs électroniques est effectué par chauffage périodique de la chambre de nettoyage (1) tout en soumettant la chambre de nettoyage à une pression réduite, le nettoyage et le séchage étant effectués dans la même chambre de nettoyage. On obtient ainsi la restauration et le nettoyage minutieux d'un dispositif électronique endommagé.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)