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1. (WO2018006639) QUANTUM DOT DISPLAY SUBSTRATE AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR, AND QUANTUM DOT DISPLAY APPARATUS
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Pub. No.: WO/2018/006639 International Application No.: PCT/CN2017/082684
Publication Date: 11.01.2018 International Filing Date: 02.05.2017
IPC:
G02F 1/1335 (2006.01)
Applicants: BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD.[CN/CN]; No. 10 Jiuxianqiao Rd., Chaoyang District, Beijing 100015, CN
Inventors: TIAN, Yunyun; CN
LV, Jing; CN
IM, Yunsik; CN
CHOI, Hyunsic; CN
YANG, Zezhou; CN
Agent: TEE&HOWE INTELLECTUAL PROPERTY ATTORNEYS; CHEN,Yuan 10th Floor, Tower D, Minsheng Financial Center, 28 Jianguomennei Avenue, Dongcheng District Beijing 100005, CN
Priority Data:
201610538470.208.07.2016CN
Title (EN) QUANTUM DOT DISPLAY SUBSTRATE AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR, AND QUANTUM DOT DISPLAY APPARATUS
(FR) SUBSTRAT D'AFFICHAGE À POINTS QUANTIQUES ET PROCÉDÉ DE FABRICATION ASSOCIÉ, ET APPAREIL D'AFFICHAGE À POINTS QUANTIQUES
(ZH) 量子点显示基板及其制造方法和量子点显示装置
Abstract: front page image
(EN) A quantum dot display substrate and a manufacturing method therefor, and a quantum dot display apparatus. The quantum dot display substrate comprises black matrix patterns (3) and quantum dot patterns (4), wherein the quantum dot patterns (4) are located between the black matrix patterns (3). The quantum dot display substrate further comprises: a first base substrate (1), and a first optical layer (21) and a second optical layer (22) which are located at one side of the first base substrate (1), wherein the first optical layer (21) is located at one side,, which is far away from the first base substrate (1), of the second optical layer (22); the first optical layer (21) is used for performing collimation processing on incident light to form collimated light, and outputting the collimated light to the second optical layer (22); and the second optical layer (22) is used for adjusting a light-emitting direction of the collimated light to form emergent light, and making the emergent light irradiate to the black matrix patterns (3), so as to avoid the emergent light from irradiating to the quantum dot patterns (4), so that the quantum dot display apparatus can perform real dark state displaying.
(FR) La présente invention a trait à un substrat d'affichage à points quantiques et à un procédé de fabrication associé, ainsi qu'à un appareil d'affichage à points quantiques. Le substrat d'affichage à points quantiques comprend des motifs de matrice noire (3) et des motifs de points quantiques (4), les motifs de points quantiques (4) se trouvant entre les motifs de matrice noire (3). Ce substrat d'affichage à points quantiques comporte en outre : un premier substrat de base (1), et une première couche optique (21) ainsi qu'une seconde couche optique (22) qui se situent sur un côté du premier substrat de base (1), la première couche optique (21) se trouvant sur un côté, qui est éloigné dudit premier substrat de base (1), de la seconde couche optique (22) ; la première couche optique (21) sert à effectuer un traitement de collimation sur une lumière incidente afin de former une lumière collimatée, et à émettre la lumière collimatée vers la seconde couche optique (22) ; et la seconde couche optique (22) sert à ajuster une direction d'émission de lumière de la lumière collimatée pour former une lumière émergente, et à amener la lumière émergente à se propager vers les motifs de matrice noire (3), de manière à éviter que la lumière émergente ne se propage vers les motifs de points quantiques (4), de telle sorte que ledit appareil d'affichage à points quantiques puisse réaliser un véritable affichage d'état sombre.
(ZH) 一种量子点显示基板及其制造方法和量子点显示装置。量子点显示基板包括黑矩阵图形(3)和量子点图形(4),量子点图形(4)位于黑矩阵图形(3)之间,量子点显示基板还包括:第一衬底基板(1)和位于第一衬底基板(1)一侧的第一光学层(21)和第二光学层(22),第一光学层(21)位于第二光学层(22)的远离第一衬底基板(1)的一侧;第一光学层(21),用于对入射光进行准直处理形成准直光,并将准直光输出至第二光学层(22);第二光学层(22),用于调整准直光的出光方向形成出射光,并使出射光照射至黑矩阵图形(3)上,避免了出射光照射至量子点图形(4)上,从而使得量子点显示装置能够进行真正的暗态显示。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)