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1. (WO2018005868) APPARATUS FOR PHYSICAL VAPOR DEPOSITION REACTIVE PROCESSING OF THIN FILM MATERIALS
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Pub. No.:    WO/2018/005868    International Application No.:    PCT/US2017/040108
Publication Date: 04.01.2018 International Filing Date: 29.06.2017
IPC:
G11B 5/72 (2006.01), C23C 14/00 (2006.01), C23C 14/35 (2006.01), C23C 8/00 (2006.01)
Applicants: HIA, INC. [US/US]; 1507 Gladding Ct. Milpitas, California 95035 (US)
Inventors: HARKNESS, Samuel D., IV; (US).
TRAN, Quang N.; (US)
Agent: GALLIANI, William S.; (US).
ZIMMER, Kevin J.; (US)
Priority Data:
62/356,376 29.06.2016 US
Title (EN) APPARATUS FOR PHYSICAL VAPOR DEPOSITION REACTIVE PROCESSING OF THIN FILM MATERIALS
(FR) APPAREIL POUR LE TRAITEMENT PAR RÉACTION DE DÉPÔT PHYSIQUE EN PHASE VAPEUR DE MATÉRIAUX À COUCHE MINCE
Abstract: front page image
(EN)An apparatus has a cathode target with a cathode target outer perimeter. An inner magnetic array with an inner magnetic array inner perimeter is at the cathode target outer perimeter. An outer magnetic array has an outer magnetic array outer perimeter larger than the inner magnetic array inner perimeter. The inner magnetic array and the outer magnetic array are concentric and each have a single, common, parallel magnetic orientation to form a magnetic field environment that defines a plasma confinement zone adjacent the target cathode and the plasma confinement zone causes a gas operative as a reactive gas and sputter gas to become ionized and thus be directed to the target cathode and cause a second set of ions including species from the target to disperse across a substrate.
(FR)L'invention concerne un appareil possédant une cible cathodique dotée d'un périmètre extérieur de cible cathodique. Un réseau magnétique intérieur ayant un périmètre intérieur de réseau magnétique intérieur se trouve au niveau du périmètre extérieur de la cible cathodique. Un réseau magnétique extérieur a un périmètre extérieur de réseau magnétique extérieur plus grand que le périmètre intérieur du réseau magnétique intérieur. Le réseau magnétique intérieur et le réseau magnétique extérieur sont concentriques et ont chacun une seule orientation magnétique commune et parallèle permettant de former un environnement de champ magnétique qui définit une zone de confinement de plasma adjacente à la cathode cible et la zone de confinement de plasma fait qu'un gaz servant de gaz réactif et de gaz de pulvérisation est ionisé et ainsi dirigé vers la cathode cible et provoque la dispersion d'un second ensemble d'ions, y compris des espèces provenant de la cible, à travers un substrat.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)