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1. (WO2018005327) THIN GLASS BASED ARTICLE WITH HIGH RESISTANCE TO CONTACT DAMAGE
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Pub. No.:    WO/2018/005327    International Application No.:    PCT/US2017/039204
Publication Date: 04.01.2018 International Filing Date: 26.06.2017
IPC:
C03C 23/00 (2006.01), C03C 3/087 (2006.01), C03C 3/091 (2006.01), C03C 3/093 (2006.01), C03C 3/097 (2006.01)
Applicants: CORNING INCORPORATED [US/US]; 1 Riverfront Plaza Corning, NY 14831 (US)
Inventors: CHEREKDJIAN, Sarko; (US).
EGBOIYI, Benedict, Osobomen; (US).
MATTINGLY, William, Brashear, III; (US).
NISHIMOTO, Michael, Yoshiya; (US).
ONO, Toshihiko; (JP).
PANDA, Prakash, Chandra; (US).
WILANTEWICZ, Trevor, Edward; (US)
Agent: HARAN, John, T; (US)
Priority Data:
62/355,437 28.06.2016 US
Title (EN) THIN GLASS BASED ARTICLE WITH HIGH RESISTANCE TO CONTACT DAMAGE
(FR) ARTICLE À BASE DE VERRE MINCE AYANT UNE RÉSISTANCE ÉLEVÉE AUX DOMMAGES PAR CONTACT
Abstract: front page image
(EN)Provided herein are ion-implanted glass based articles with improved flaw suppression properties. The ion-implanted glass based articles generally have a final indent fracture threshold (IFT) load of at least 650 grams, and/or a scratch threshold force of at least 10 N, which represents at least 1.25-fold enhancement compared to the glass based article prior to ion- implantation. Factors affecting the efficacy of the ion implantation process can include the IFT load of the starting glass or glass ceramic substrate (native IFT load), ion type, ion dose, implant energy, beam current, and glass temperature.
(FR)L'invention concerne des articles à base de verre à implantation ionique présentant des propriétés améliorées de suppression des défauts. Les articles à base de verre à implantation ionique ont généralement une charge finale de seuil de fracture d'indentation (IFT) d'au moins 650 grammes, et/ou une force de seuil de rayure d'au moins IO N, ce qui représente une amélioration par au moins 1,25 fois par rapport à l'article à base de verre avant l'implantation ionique. Des facteurs affectant l'efficacité du processus d'implantation ionique peuvent comprendre la charge IFT du substrat de verre ou de vitrocéramique de départ (charge IFT native), le type d'ions, la dose d'ions, l'énergie de l'implant, le courant du faisceau et la température du verre.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)