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1. (WO2018003808) NEGATIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED FILM, ELEMENT PROVIDED WITH CURED FILM, DISPLAY DEVICE PROVIDED WITH ELEMENT, AND ORGANIC EL DISPLAY
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Pub. No.:    WO/2018/003808    International Application No.:    PCT/JP2017/023602
Publication Date: 04.01.2018 International Filing Date: 27.06.2017
IPC:
G03F 7/037 (2006.01), G02B 5/20 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/12 (2006.01), H05B 33/22 (2006.01)
Applicants: TORAY INDUSTRIES, INC. [JP/JP]; 1-1, Nihonbashi-Muromachi 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1038666 (JP)
Inventors: MATSUKI, Shinichi; (JP).
TANIGAKI, Yugo; (JP).
MIYOSHI, Kazuto; (JP)
Priority Data:
2016-129737 30.06.2016 JP
Title (EN) NEGATIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED FILM, ELEMENT PROVIDED WITH CURED FILM, DISPLAY DEVICE PROVIDED WITH ELEMENT, AND ORGANIC EL DISPLAY
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE NÉGATIVE, FILM DURCI, ÉLÉMENT DOTÉ D'UN FILM DURCI, DISPOSITIF D'AFFICHAGE DOTÉ D'UN TEL ÉLÉMENT ET AFFICHEUR ÉLECTROLUMINESCENT ORGANIQUE
(JA) ネガ型感光性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜を具備する素子、素子を具備する表示装置、及び有機ELディスプレイ
Abstract: front page image
(EN)The present invention provides a negative photosensitive resin composition which has high dispersion stability of a pigment and is capable of reducing residue in an unexposed portion during the development. The present invention is a negative photosensitive resin composition which contains (A) an alkali-soluble resin, (B) a dispersant having an amine value of more than 0, (C) a benzofuranone-based organic pigment having an amide structure, (D) a radically polymerizable compound and (E) a photopolymerization initiator, and which is configured such that: the alkali-soluble resin (A) contains one or more substance selected from the group consisting of (A1) polyimides, (A2) polyimide precursors, (A3) polybenzoxazoles and (A4) polybenzoxazole precursors; and the dispersant (B) having an amine value of more than 0 contains (B1) a dispersant that contains a repeating unit represented by general formula (2) and a repeating unit represented by general formula (3), (B2) a dispersant that is an acrylic block copolymer having an amine value of 15-60 mgKOH/g and/or (B3) a dispersant having a urethane bond. (In general formula (2), R1 represents an alkylene group; R2 and R3 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, an alkyl group or a hydroxyl group; x represents an integer of 0-20, provided that if x is 0, at least one of the R2 and R3 moieties represents an alkyl group; and m represents an integer of 1-100. In general formula (3), n represents an integer of 1-100.)
(FR)La présente invention concerne une composition de résine photosensible négative qui présente une stabilité élevée à la dispersion d'un pigment et est capable de réduire un résidu dans une partie non exposée pendant le développement. La présente invention est une composition de résine photosensible négative qui contient (A) une résine soluble dans les alcalis, (B) un dispersant ayant un indice d'amine supérieur à 0, (C) un pigment organique à base de benzofuranone ayant une structure amide, (D) un composé polymérisable par voie radicalaire et (E) un initiateur de photo-polymérisation, et qui est configurée de telle sorte que : la résine soluble dans les alcalis (A) contient une ou plusieurs substances choisies dans le groupe constitué de (A1) polyimides, (A2) précurseurs de polyimide, (A3) polybenzoxazoles et (A4) précurseurs de polybenzoxazole ; et le dispersant (B) ayant un indice d'amine supérieur à 0 contient (B1) un dispersant qui contient une unité de répétition représentée par la formule générale (2) et un motif de répétition représenté par la formule générale (3), (B2) un dispersant qui est un copolymère à bloc acrylique ayant un indice d'amine de 15 à 60 mg KOH/g et/ou (B3) un dispersant comportant une liaison uréthane. (Dans la formule générale (2), R 1 représente un groupe alkylène ; R 2 et R 3 peuvent être identiques ou différents et représentent chacun un atome d'hydrogène, un groupe alkyle ou un groupe hydroxyle ; x représente un nombre entier de 0 à 20, à condition que si x vaut 0, au moins l'une des fractions R 2 et R 3 représente un groupe alkyle ; et m représente un nombre entier de 1 à 100. Dans la formule générale (3), n représente un nombre entier de 1 à 100.
(JA)本発明は、高い顔料の分散性安定性を有し、かつ現像時における未露光部の残渣を低減できるネガ型感光性樹脂組成物を提供する。本発明は、 (A)アルカリ可溶性樹脂、(B)0を超えるアミン価を有する分散剤、(C)アミド構造を有するベンゾフラノン系有機顔料、(D)ラジカル重合性化合物、及び(E)光重合開始剤を含有するネガ型感光性樹脂組成物であって、前記(A)アルカリ可溶性樹脂が、 (A1)ポリイミド、(A2)ポリイミド前駆体、(A3)ポリベンゾオキサゾールおよび(A4)ポリベンゾオキサゾール前駆体からなる群より選択される1種類以上を含み、かつ、前記(B)0を超えるアミン価を有する分散剤が、(B1)一般式(2)で表される繰り返し単位及び一般式(3)で表される繰り返し単位を含む分散剤と、(B2)アミン価が15~60mgKOH/gのアクリルブロックコポリマーである分散剤及び/または(B3)ウレタン結合を有する分散剤と、を含む、ネガ型感光性樹脂組成物。(一般式(2)中、Rはアルキレン基を表す。R及びRはそれぞれ同じでも異なっていてもよく、水素、アルキル基またはヒドロキシル基を表す。xは0~20の整数を表す。ただし、xが0のときはR、Rの少なくともいずれかがアルキル基である。mは1~100の整数を表す。一般式(3)中、nは1~100の整数を表す。)
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
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Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)