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Pub. No.:    WO/2018/003692    International Application No.:    PCT/JP2017/023191
Publication Date: 04.01.2018 International Filing Date: 23.06.2017
G01C 19/5747 (2012.01), B81B 3/00 (2006.01), H01L 41/09 (2006.01), H01L 41/113 (2006.01)
Applicants: DENSO CORPORATION [JP/JP]; 1-1, Showa-cho, Kariya-city, Aichi 4488661 (JP)
Inventors: JOMORI Tomoya; (JP)
Agent: YOU-I PATENT FIRM; Nagoya Nishiki City Bldg. 4F 1-6-5, Nishiki, Naka-ku, Nagoya-shi, Aichi 4600003 (JP)
Priority Data:
2016-131788 01.07.2016 JP
(JA) 物理量センサ
Abstract: front page image
(EN)In the present invention, the spring constants of a first detection beam (41a) and a second detection beam (41b) that support detection spindles (35, 36) are set to be different from each other. The dimension in the x-axis direction of one of the first detection beam (41a) and the second detection beam (41b) is increased and a formation area of detection piezoelectric films (61a-61d) is increased in order to improve sensitivity, and the dimension in the x-axis direction of the other detection beam is suppressed in order to prevent the detection resonance frequency from increasing. Due to this configuration, sensitivity can be improved.
(FR)Dans la présente invention, les constantes de ressort d'un premier faisceau de détection (41a) et d'un deuxième faisceau de détection (41b), qui portent des broches de détection (35, 36), sont ajustées de façon à être différentes l'une de l'autre. La dimension dans la direction de l'axe x de l'un du premier faisceau de détection (41a) et du second faisceau de détection (41b) est augmentée, et une zone de formation de films piézoélectriques de détection (61a-61d) est augmentée afin d'augmenter la sensibilité, et la dimension dans la direction de l'axe x de l'autre faisceau de détection est supprimée afin d'empêcher une augmentation de la fréquence de résonance de la détection. Grâce à cette configuration, il est possible d'améliorer la sensibilité.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)