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1. (WO2018003615) SPUTTERING APPARATUS FILM FORMATION UNIT
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Pub. No.: WO/2018/003615 International Application No.: PCT/JP2017/022797
Publication Date: 04.01.2018 International Filing Date: 21.06.2017
IPC:
C23C 14/35 (2006.01) ,C23C 14/34 (2006.01)
Applicants: ULVAC, INC.[JP/JP]; 2500, Hagisono, Chigasaki-shi, Kanagawa 2538543, JP
Inventors: SAITOU Shuuji; JP
Agent: SEIGA PATENT AND TRADEMARK CORPORATION; 9th Fl., Saisho Bldg., 1-14, Nishi-Gotanda 8-chome, Shinagawa-ku, Tokyo 1410031, JP
Priority Data:
2016-12941629.06.2016JP
Title (EN) SPUTTERING APPARATUS FILM FORMATION UNIT
(FR) UNITÉ DE FORMATION DE FILM D'APPAREIL DE PULVÉRISATION
(JA) スパッタリング装置用成膜ユニット
Abstract: front page image
(EN) Provided is a sputtering apparatus film formation unit that has a simple structure and is easy to maintain without interfering with the function of free target movement relative to a magnet unit. On a support plate 1, this sputtering apparatus film formation unit FU is provided with targets 2 to which backing plates 3 are bonded, magnet units 5, and a driving means 8 for reciprocating the targets 2 with respect to the magnet units along the support plate. Supply tubes 32 and discharge tubes 33 that open into coolant passages 31 of the backing plates are installed in a protruding manner in the backing plates, and slits 13, into which the supply tubes and discharge tubes are inserted and which are long in the direction of the reciprocating motion of the targets, are opened in the support plate. The lower surface of the support plate is provided with cap bodies 71, which encompass the slits and surround the portions of the supply tubes and the discharge tubes that protrude downward from the slits in an airtight manner. The respective portions of the supply tubes and the discharge tubes that protrude from the cap bodies in the direction of the reciprocating motion are inserted into bellows tubes 72 and are connected to the driving parts of the driving means.
(FR) L'invention concerne une unité de formation de film d'appareil de pulvérisation qui présente une structure simple et qui est facile à entretenir sans interférer avec la fonction de mouvement de cible libre par rapport à une unité d'aimant. Sur une plaque de support (1), cette unité de formation de film d'appareil de pulvérisation FU est pourvue de cibles (2) auxquelles sont liées des plaques d'appui (3), des unités d'aimant (5), et un moyen d'entraînement (8) pour déplacer les cibles selon un mouvement de va-et-vient par rapport aux unités d'aimant le long de la plaque de support. Des tubes d'alimentation (32) et des tubes de décharge (33) qui débouchent dans les passages de liquide de refroidissement (31) des plaques d'appui sont installés en saillie dans les plaques d'appui, et des fentes (13), dans lesquelles les tubes d'alimentation et les tubes de décharge sont insérés et qui sont longs dans le sens du mouvement de va-et-vient des cibles, sont ouvertes dans la plaque de support. La surface inférieure de la plaque de support est pourvue de corps d'embout (71), qui englobent les fentes et entourent les parties des tubes d'alimentation et des tubes de décharge qui font saillie vers le bas depuis les fentes de manière étanche à l'air. Les parties respectives des tubes d'alimentation et des tubes de décharge qui font saillie depuis les corps d'embout dans le sens du mouvement de va-et-vient sont insérées dans des tubes à soufflet (72) et sont reliées aux parties d'entraînement du moyen d'entraînement.
(JA) マグネットユニットに対してターゲットが相対移動自在であるという機能を損なうことなく、簡単な構造でメンテナンス性のよいスパッタリング装置用成膜ユニットを提供する。 本発明のスパッタリング装置用成膜ユニットFUでは、支持板1にバッキングプレート3が接合されたターゲット2とマグネットユニット5とマグネットユニットに対してターゲットを支持板に沿って往復動する駆動手段8とを設ける。バッキングプレートにその冷媒通路31に通じる供給管32と排出管33とを突設し、供給管と排出管とが挿通する、ターゲットの往復動方向に長手のスリット孔13を支持板に開設する。支持板の下面に、スリット孔を含む、供給管と排出管のスリット孔から下方に突出した部分を気密状態に囲うキャップ体71を設け、キャップ体から往復動方向に突出する供給管と排出管との部分にベローズ管72を夫々外挿すると共に駆動手段の駆動部を連結する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)