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1. (WO2018001709) STAGE SYSTEM, LITHOGRAPHIC APPARATUS, METHOD FOR POSITIONING AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
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Pub. No.:    WO/2018/001709    International Application No.:    PCT/EP2017/064265
Publication Date: 04.01.2018 International Filing Date: 12.06.2017
IPC:
G03F 7/20 (2006.01), H01L 21/683 (2006.01)
Applicants: ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven (NL)
Inventors: JANSSENS, Stef, Marten, Johan; (NL).
SCHOLTEN, Bert, Dirk; (NL).
DONDERS, Sjoerd, Nicolaas, Lambertus; (NL).
VAN DAM, Teunis; (NL).
OVERSCHIE, Peter; (NL).
SPAAN-BURKE, Theresa, Mary; (NL).
TROMP, Siegfried, Alexander; (NL)
Agent: RAS, Michael; (NL)
Priority Data:
16177447.6 01.07.2016 EP
17158730.6 01.03.2017 EP
Title (EN) STAGE SYSTEM, LITHOGRAPHIC APPARATUS, METHOD FOR POSITIONING AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) SYSTÈME ÉTAGÉ, APPAREIL LITHOGRAPHIQUE, PROCÉDÉ DE POSITIONNEMENT, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
Abstract: front page image
(EN)The present invention relates to a system for positioning, a stage system, a lithographic apparatus, a method for positioning and a method for manufacturing a device in which use is made of a stage system. In accordance with the invention, a plurality of air bearing devices is provided. Each air bearing device comprises: - an air bearing body, which has a free surface, - a primary channel which extends through the air bearing body and has an inlet opening in the free surface, - a secondary channel system which extends through the air bearing body and which has a plurality of discharge openings in the free surface. The flow resistance in the secondary channel system is higher than the flow resistance in the primary channel.
(FR)La présente invention concerne un système de positionnement, un système étagé, un appareil lithographique, un procédé de positionnement, et un procédé de fabrication d'un dispositif utilisant un système étagé. Selon l'invention, une pluralité de dispositifs de palier à air sont prévus. Chaque dispositif de palier à air comprend : - un corps de palier à air qui a une surface libre, - un canal primaire qui s'étend à travers le corps de palier à air et possède une ouverture d'entrée dans la surface libre, - un système de canal secondaire qui s'étend à travers ce corps de palier à air et qui comporte une pluralité d'ouvertures d'évacuation dans la surface libre. La résistance à l'écoulement dans le système de canal secondaire est supérieure à la résistance à l'écoulement dans le canal primaire.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)