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1. (WO2018000977) MASK PLATE ASSEMBLY, METHOD FOR INSTALLING MASK PLATE ASSEMBLY AND EVAPORATION DEVICE
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Pub. No.:    WO/2018/000977    International Application No.:    PCT/CN2017/084733
Publication Date: 04.01.2018 International Filing Date: 17.05.2017
IPC:
C23C 14/04 (2006.01), C23C 14/24 (2006.01)
Applicants: BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD. [CN/CN]; No.10 Jiuxianqiao Rd., Chaoyang District Beijing 100015 (CN).
ORDOS YUANSHENG OPTOELECTRONICS CO., LTD. [CN/CN]; Ordos Equipment Manufacturing Base Dongsheng District, Ordos Inner Mongolia 017020 (CN)
Inventors: LIN, Zhiming; (CN).
WANG, Zhen; (CN).
ZHANG, Jian; (CN).
TANG, Fuqiang; (CN).
HUANG, Chunchieh; (CN)
Agent: CHINA SCIENCE PATENT & TRADEMARK AGENT LTD.; Suite 4-1105 No.87, West 3rd Ring North Rd. Haidian District Beijing 100089 (CN)
Priority Data:
201610493408.6 28.06.2016 CN
Title (EN) MASK PLATE ASSEMBLY, METHOD FOR INSTALLING MASK PLATE ASSEMBLY AND EVAPORATION DEVICE
(FR) ENSEMBLE DE MASQUE, PROCÉDÉ D'INSTALLATION D'ENSEMBLE PLAQUE DE MASQUE ET DISPOSITIF D'ÉVAPORATION
(ZH) 掩膜版组件及其安装方法、蒸镀装置
Abstract: front page image
(EN)A mask plate assembly (10), a method for installing the mask plate assembly (10) and an evaporation device. The mask plate assembly (10) comprises a support frame (300); a mask plate (200) fixed on the support frame (300), the mask plate (200) comprising an active mask region (201) and an inactive mask region (202) surrounding the active mask region (201); a first support strip (301) fixed on the support frame (300), wherein, the first support strip (301) is arranged on one side facing away from the support frame (300), of the mask plate (200), and the projection of the first support strip (301) on the plane where the support frame (300) is located and the projection of the mask plate (200) on the plane where the support frame (300) is located have a first overlapping part, and the first overlapping part is located in the projection area of the inactive mask region (202) on the plane where the support frame (300) is located.
(FR)Cette invention concerne un ensemble plaque de masque (10), un procédé d'installation de l'ensemble plaque de masque (10) et un dispositif d'évaporation. L'ensemble plaque de masque (10) comprend un cadre de support (300) ; une plaque de masque (200) fixée sur le cadre de support (300), la plaque de masque (200) comprenant une région de masque active (201) et une région de masque inactive (202) entourant la région de masque active (201) ; une première bande de support (301) fixée au cadre de support (300), la première bande de support (301) étant disposée sur un côté opposé au cadre de support (300), de la plaque de masque (200), et la saillie de la première bande de support (301) sur le plan où le cadre de support (300) est situé et la saillie de la plaque de masque (200) sur le plan où le cadre de support (300) est situé présentent une première partie de chevauchement, et la première partie de chevauchement est située dans la zone de saillie de la région de masque inactive (202) sur le plan où est disposé le cadre de support (300).
(ZH)一种掩膜版组件(10)、一种安装掩膜版组件(10)的方法及一种蒸镀装置。掩膜版组件(10)包括支撑架(300);固定于支撑架(300)上的掩膜版(200),掩膜版(200)包括有效掩膜区(201)和包围有效掩膜区(201)的无效掩膜区(202);固定于支撑架(300)上的第一支撑条(301),第一支撑条(301)设置于掩膜版(200)背离支撑架(300)的一侧,且第一支撑条(301)在支撑架(300)所在平面的投影与掩模版(200)在支撑架(300)所在平面的投影存在第一交叠部分,第一交叠部分位于无效掩膜区(202)在支撑架(300)所在平面的投影区域内。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)