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1. (WO2018000491) BLACK MATRIX PHOTOMASK, METHOD FOR PREPARING BLACK MATRIX AND APPLICATION THEREOF
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Pub. No.:    WO/2018/000491    International Application No.:    PCT/CN2016/091812
Publication Date: 04.01.2018 International Filing Date: 27.07.2016
IPC:
G02F 1/1335 (2006.01), G02F 1/1362 (2006.01)
Applicants: WUHAN CHINA STAR OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; Building C5,Biolake of Optics Valley,No.666 Gaoxin Avenue,Wuhan East Lake High-tech Development Zone Wuhan, Hubei 430070 (CN)
Inventors: SHEN, Jiawun; (CN).
JIA, Yingbin; (CN).
SUN, Haoran; (CN)
Agent: COMIPS INTELLECTUAL PROPERTY OFFICE; Room 15E, Shenkan Building, Shangbu Zhong Road, Futian District Shenzhen, Guangdong 518028 (CN)
Priority Data:
201610493901.8 29.06.2016 CN
Title (EN) BLACK MATRIX PHOTOMASK, METHOD FOR PREPARING BLACK MATRIX AND APPLICATION THEREOF
(FR) MASQUE PHOTOGRAPHIQUE À MATRICE NOIRE, PROCÉDÉ DE PRÉPARATION DE LA MATRICE NOIRE ET SON APPLICATION
(ZH) 黑色矩阵光罩、制备黑色矩阵的方法及其应用
Abstract: front page image
(EN)A black matrix photomask (43), a method for preparing a black matrix (41), and an application thereof. The black matrix photomask (43) is coated with a light shielding layer (45) with a specific penetration rate along an edge of a black matrix pattern (44) on the black matrix photomask (43). Also provided are methods for preparing a black matrix (41), a colour filter, an array substrate and a liquid crystal display apparatus. The method for preparing a black matrix (41) comprises: step 100, exposing a black matrix material layer (40) on a substrate (42) using a black matrix photomask (43) (100); step 200, developing the exposed black matrix material layer (40) (200); and step 300, baking the developed black matrix material layer (40), and finally forming a black matrix (41) on the substrate (42) (300). The black matrix photomask (43) and the methods for preparing a black matrix (41), a colour filter, an array substrate and a liquid crystal display apparatus can increase the taper angle of the black matrix (41), thereby facilitating the improvement of the aperture ratio of a product.
(FR)La présente invention concerne un photomasque à matrice noire (43), un procédé de préparation d'une matrice noire (41), et une application de celui-ci. Le photomasque à matrice noire (43) est recouvert d'une couche de protection contre la lumière (45) ayant un taux de pénétration spécifique le long d'un bord d'un motif de matrice noire (44) sur le photomasque à matrice noire (43). L'invention concerne également des procédés de préparation d'une matrice noire (41), d'un filtre coloré, d'un substrat de réseau et d'un appareil d'affichage à cristaux liquides. Le procédé de préparation d'une matrice noire (41) comprend : étape 100, exposition d'une couche de matériau de matrice noire (40) sur un substrat (42) à l'aide d'un photomasque à matrice noire (43) (100); étape 200, développement de la couche de matériau de matrice noire (40) exposée; et étape 300, cuisson de la couche de matériau de matrice noire développée (40), et enfin formation d'une matrice noire (41) sur le substrat (42). Le photomasque à matrice noire (43) et les procédés de préparation d'une matrice noire (41), d'un filtre coloré, un substrat de réseau et un appareil d'affichage à cristaux liquides peuvent augmenter l'angle de conicité de la matrice noire (41), facilitant ainsi l'amélioration du rapport d'ouverture d'un produit.
(ZH)一种黑色矩阵光罩(43)、制备黑色矩阵(41)的方法及其应用。该黑色矩阵光罩(43)沿所述黑色矩阵光罩(43)上的黑色矩阵图案(44)的边缘涂有具有特定穿透率的遮光层(45)。还提供了制备黑色矩阵(41)、彩色滤光片、阵列基板、液晶显示装置的方法。该制备黑色矩阵(41)的方法包括:步骤100、使用所述黑色矩阵光罩(43)对基板(42)上的黑色矩阵材料层(40)进行曝光(100);步骤200、对曝光后的黑色矩阵材料层(40)进行显影(200);步骤300、对显影后的黑色矩阵材料层(40)进行烘烤,最终在所述基板(42)上形成黑色矩阵(41)(300)。黑色矩阵光罩(43)以及制备黑色矩阵(41)、彩色滤光片、阵列基板、液晶显示装置的方法,能够使得黑色矩阵(41)锥角变高,有助于提升产品开口率。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)