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1. (WO2017205391) PARTICLE DETECTION FOR SUBSTRATE PROCESSING
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Pub. No.: WO/2017/205391 International Application No.: PCT/US2017/034028
Publication Date: 30.11.2017 International Filing Date: 23.05.2017
IPC:
H01L 21/66 (2006.01) ,H01L 21/683 (2006.01) ,H01L 21/67 (2006.01)
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC.[US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054, US
Inventors: EGAN, Todd; US
VAEZ-IRAVANI, Mehdi; US
BANNA, Samer; US
TANTIWONG, Kyle; US
KIRK, Gregory; US
RAVID, Abraham; US
SHEN, Yaoming; US
Agent: PATTERSON, B. Todd; US
STEVENS, Joseph J.; US
Priority Data:
62/340,30123.05.2016US
Title (EN) PARTICLE DETECTION FOR SUBSTRATE PROCESSING
(FR) DÉTECTION DE PARTICULES POUR TRAITEMENT DE SUBSTRAT
Abstract: front page image
(EN) A system for processing a substrate is provided. The system includes a process chamber including one or more sidewalls enclosing a processing region; and a substrate support. The system further includes a passageway connected to the process chamber; and a first particle detector disposed at a first location along the passageway. The first particle detector includes an energy source configured to emit a first beam; one or more optical devices configured to direct the first beam along one or more paths, where the one or more paths extend through at least a portion of the passageway. The first particle detector further includes a first energy detector disposed at a location other than on the one or more paths. The system further includes a controller configured to communicate with the first particle detector, wherein the controller is configured to identify a fault based on signals received from the first particle detector.
(FR) La présente invention concerne un système de traitement de substrat. Le système comprend une chambre de traitement comprenant une ou plusieurs parois latérales entourant une région de traitement et un support de substrat. Le système comprend en outre un passage communiquant avec la chambre de traitement et un premier détecteur de particules, disposé à un premier emplacement le long du passage. Le premier détecteur de particules comprend une source d'énergie configurée pour émettre un premier faisceau ; un ou plusieurs dispositifs optiques, configurés pour diriger le premier faisceau le long d'un ou de plusieurs trajets, le ou les trajets s'étendant à travers au moins une partie du passage. Le premier détecteur de particules comprend en outre un premier détecteur d'énergie disposé à un emplacement autre que sur le ou les trajets. Le système comprend en outre un dispositif de commande configuré pour communiquer avec le premier détecteur de particules, le dispositif de commande étant configuré pour identifier un défaut sur la base de signaux reçus du premier détecteur de particules.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)