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1. (WO2017205361) COMBINED PATCH AND DESIGN-BASED DEFECT DETECTION
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Pub. No.:    WO/2017/205361    International Application No.:    PCT/US2017/033976
Publication Date: 30.11.2017 International Filing Date: 23.05.2017
IPC:
G01N 21/95 (2006.01), G01N 21/88 (2006.01)
Applicants: KLA-TENCOR CORPORATION [US/US]; Legal Department One Technology Drive Milpitas, California 95035 (US)
Inventors: BRAUER, Bjorn; (US).
BHATTACHARYYA, Santosh; (US)
Agent: MCANDREWS, Kevin; (US).
MORRIS, Elizabeth M. N; (US)
Priority Data:
62/341,545 25.05.2016 US
15/356,799 21.11.2016 US
Title (EN) COMBINED PATCH AND DESIGN-BASED DEFECT DETECTION
(FR) DÉTECTION DE DÉFAUT COMBINÉE À BASE DE PLAQUE ET DE CONCEPTION
Abstract: front page image
(EN)Defect detection is performed by comparing a test image and a reference image with a rendered design image, which may be generated from a design file. This may occur because a comparison of the test image and another reference image was inconclusive due to noise. The results of the two comparisons with the rendered design image can indicate whether a defect is present in the test image.
(FR)Selon la présente invention, la détection de défaut est effectuée par comparaison d'une image d’essai et d'une image de référence à une image de conception rendue, qui peut être générée à partir d'un fichier de conception. Cela peut être réalisé parce qu'une comparaison de l'image d'essai et d'une autre image de référence n’était pas concluante en raison du bruit. Les résultats des deux comparaisons à l'image de conception rendue peuvent indiquer si un défaut est présent dans l'image d’essai.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)