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1. (WO2017205064) SYSTEM AND METHOD FOR FORMING STACKED MATERIALS
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Pub. No.:    WO/2017/205064    International Application No.:    PCT/US2017/032130
Publication Date: 30.11.2017 International Filing Date: 11.05.2017
IPC:
B29C 70/44 (2006.01), B29C 43/12 (2006.01)
Applicants: GENERAL ELECTRIC COMPANY [US/US]; 1 River Road Schenectady, NY 12345 (US)
Inventors: SHAIR, Sultan; (US).
PETERSEN, Martin; (US).
LUTZ, Andreas; (US).
THATTAI PARTHASARATHY, Krishnan, Balaji; (US).
VAN NIEUWENHOVE, Stefaan, Guido; (US).
KLUGE, Thomas; (US).
BOLLACKER, James, Duvall; (US).
NIERATSCHKER, Anja, Lena; (US)
Agent: DIMAURO, Peter, T.; (US).
MIDGLEY, Stephen, G.; (US).
GNIBUS, Michael, M.; (US).
KRAMER, John, A.; (US).
WINTER, Catherine, J.; (US)
Priority Data:
15/163,172 24.05.2016 US
Title (EN) SYSTEM AND METHOD FOR FORMING STACKED MATERIALS
(FR) SYSTÈME ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MATÉRIAUX EMPILÉS
Abstract: front page image
(EN)A system for forming stacked material includes a housing defining an interior space. The housing includes a bottom wall and a side wall coupled to the bottom wall. At least one tool is configured to shape the stacked material. The at least one tool is disposed within the interior space. A membrane extends at least partially over the bottom wall and is spaced a distance from the bottom wall. The membrane is configured to move towards the bottom wall. At least one intensifier mechanism is disposed in the interior space and is configured to induce a force against a portion of the stacked material and against the at least one tool as the membrane is moved towards the bottom wall.
(FR)L'invention concerne un système de formation de matériau empilé comprenant un boîtier définissant un espace intérieur. Le boîtier comprend une paroi inférieure et une paroi latérale accouplée à la paroi inférieure. Au moins un outil est configuré pour former le matériau empilé. Ledit au moins un outil est disposé à l'intérieur de l'espace intérieur. Une membrane s'étend au moins partiellement sur la paroi inférieure et est espacée d'une certaine distance de la paroi inférieure. La membrane est configurée pour se déplacer en direction de la paroi inférieure. Au moins un mécanisme d'intensification est disposé dans l'espace intérieur et est configuré pour induire une force contre une partie du matériau empilé et contre ledit au moins un outil lorsque la membrane est déplacée en direction de la paroi inférieure.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)