(EN) A spatial atomic layer deposition apparatus (10), including a showerhead (16) with a showerhead side (18) having a center, a central area and a circumferential area. The apparatus also includes a susceptor (12) having a substrate support side that extends parallel to and of opposite the showerhead side forming a gap. The susceptor and the showerhead are rotatable relative to each other around an axis of rotation. The apparatus has a plurality of switchable showerhead sections. The apparatus also includes a plurality of multi-way valve assemblies. Each switchable showerhead section is fluidly connected with one of the plurality of multi-way valve assemblies, so as to fluidly connect a selected one of a plurality of different gas sources with that switchable showerhead section.
(FR) L'invention concerne un appareil de dépôt spatial de couche atomique (10), comprenant une pomme de douche (16) avec un côté de pomme de douche (18) ayant un centre, une zone centrale et une zone circonférentielle. L'appareil comprend également un suscepteur (12) ayant un côté de support de substrat qui s'étend parallèlement à et à l'opposé du côté de pomme de douche formant un espace. Le suscepteur et la pomme de douche peuvent tourner l'un par rapport à l'autre autour d'un axe de rotation. L'appareil comporte une pluralité de sections de pomme de douche commutables. L'appareil comprend également une pluralité d'ensembles soupape à plusieurs voies. Chaque section de pomme de douche commutable est raccordée de manière fluidique avec l'un de la pluralité d'ensembles soupape à plusieurs voies, de façon à raccorder de manière fluidique une source de gaz sélectionnée parmi une pluralité de sources de gaz différentes à cette section de pomme de douche commutable.