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1. (WO2017204293) METHOD FOR FORMING CURED ELECTRODEPOSITION COATING FILM
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Pub. No.:    WO/2017/204293    International Application No.:    PCT/JP2017/019524
Publication Date: 30.11.2017 International Filing Date: 25.05.2017
IPC:
C25D 13/10 (2006.01), C09D 5/44 (2006.01), C09D 7/12 (2006.01), C09D 133/00 (2006.01)
Applicants: NIPPON PAINT INDUSTRIAL COATINGS CO., LTD. [JP/JP]; 4-1-15, Minamishinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo 1408675 (JP)
Inventors: KANEKO, Toshio; (JP).
KANO, Hirohisa; (JP).
NISHIOKA, Sumio; (JP).
AOKI, Masaru; (JP)
Agent: SAMEJIMA, Mutsumi; (JP).
GOTO, Hiroko; (JP)
Priority Data:
2016-106053 27.05.2016 JP
Title (EN) METHOD FOR FORMING CURED ELECTRODEPOSITION COATING FILM
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM DE REVÊTEMENT DURCI PAR DÉPÔT ÉLECTROLYTIQUE
(JA) 硬化電着塗膜の形成方法
Abstract: front page image
(EN)The present invention addresses the problem of providing a method for forming a cured electrodeposition coating film in which the glossiness thereof is adjusted, such as a low-gloss coating film having low specular gloss or a mat coating film. The present invention provides a method for forming a cured electrodeposition coating film, wherein the method includes an electrodeposition coating step for dipping an object to be coated in an anion electrodeposition coating material composition and forming an electrodeposition coating film, and a thermal curing step for heating and curing the electrodeposition coating film formed in the coating step, the anion electrodeposition coating material composition including an acrylic resin (A), a curing agent (B), a water-dispersion-type gloss adjuster (C), and a curing catalyst (D), the water-dispersion-type gloss adjuster (C) being a water dispersion of one or more types of wax selected from the group consisting of natural wax and a polyolefin wax, the wax configuring the water-dispersion-type gloss adjuster (C) having a softening point (Tm) of 100°C or higher and a density in the range of 0.91-1.10, the solid content mass of the water-dispersion-type gloss adjuster (C) included in the anion electrodeposition coating material composition being 6-20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of resin solid content of the anion electrodeposition coating material composition, and the coating film viscosity at 50°C of the electrodeposition coating film formed in the electrodeposition coating step being in the range of 10,000-100,000 Pa∙s.
(FR)La présente invention concerne un procédé de formation d'un film de revêtement durci par dépôt électrolytique où la brillance du film est ajustée, tel qu'un film de revêtement à faible brillance ayant un faible brillant spéculaire ou un film de revêtement mat. La présente invention concerne un procédé de formation d'un film de revêtement durci par dépôt électrolytique, le procédé comprenant une étape de revêtement par dépôt électrolytique consistant à tremper un objet à revêtir dans une composition de matériau de revêtement pour dépôt électrolytique anionique et à former un film de revêtement par dépôt électrolytique, et une étape de durcissement thermique consistant à chauffer et à durcir le film de revêtement par dépôt électrolytique formé pendant l'étape de revêtement, la composition de matériau de revêtement pour dépôt électrolytique anionique comprenant une résine acrylique (A), un agent de durcissement (B), un correcteur de brillance de type dispersion aqueuse (C) et un catalyseur de durcissement (D), le correcteur de brillance de type dispersion aqueuse (C) étant une dispersion aqueuse d'un ou plusieurs types de cire choisis dans le groupe constitué de cire naturelle et de cire de polyoléfine, la cire constituant le correcteur de brillance de type dispersion aqueuse (C) ayant un point de ramollissement (Tm) de 100 °C ou plus et une densité dans la plage de 0,91 à 1,10, la teneur massique en solides du correcteur de brillance de type dispersion aqueuse (C) inclus dans la composition de matériau de revêtement pour dépôt électrolytique anionique étant de 6 à 20 parties en masse par rapport à 100 parties en masse de la teneur en solides de la résine de la composition de matériau de revêtement pour dépôt électrolytique anionique, et la viscosité du film de revêtement à 50 °C du film de revêtement par dépôt électrolytique formé pendant l'étape de revêtement par dépôt électrolytique se situant dans la plage de 10 000 à 100 000 Pa∙s.
(JA)本発明は、鏡面光沢度の低い低光沢塗膜または艶消し塗膜など、光沢度の調整された硬化電着塗膜の形成方法を提供することを課題とする。 本発明は、硬化電着塗膜の形成方法であって、上記方法は、アニオン電着塗料組成物中に被塗物を浸漬して電着塗膜を形成する、電着塗装工程、および、上記塗装工程で形成した電着塗膜を加熱して硬化させる、加熱硬化工程、を包含し、上記アニオン電着塗料組成物は、アクリル樹脂(A)、硬化剤(B)、水分散型光沢調整剤(C)および硬化触媒(D)を含み、上記水分散型光沢調整剤(C)は、天然ワックスおよびポリオレフィンワックスからなる群から選択される1種またはそれ以上のワックスの水分散物であって、上記水分散型光沢調整剤(C)を構成するワックスは、軟化点(T)が100℃以上であり、および、密度が0.91~1.10の範囲内であり、上記アニオン電着塗料組成物中に含まれる水分散型光沢調整剤(C)の固形分質量は、アニオン電着塗料組成物の樹脂固形分100質量部に対して6~20質量部であり、上記電着塗装工程において形成された電着塗膜の50℃における塗膜粘度が10,000~100,000Pa・sの範囲内である、方法、を提供する。
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)