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1. (WO2017204223) METAL MASK FOR VAPOR DEPOSITION, METHOD FOR PRODUCING METAL MASK FOR VAPOR DEPOSITION, AND SUBSTRATE FOR FORMING METAL MASK FOR VAPOR DEPOSITION
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Pub. No.:    WO/2017/204223    International Application No.:    PCT/JP2017/019237
Publication Date: 30.11.2017 International Filing Date: 23.05.2017
IPC:
C23C 14/04 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/10 (2006.01)
Applicants: TOPPAN PRINTING CO., LTD. [JP/JP]; 5-1, Taito 1-chome, Taito-ku, Tokyo 1100016 (JP)
Inventors: ABE, Yuichiro; (JP).
DEMACHI, Yasuyuki; (JP).
TAKEDA, Kenta; (JP)
Agent: ONDA, Makoto; (JP).
ONDA, Hironori; (JP)
Priority Data:
2016-102843 23.05.2016 JP
Title (EN) METAL MASK FOR VAPOR DEPOSITION, METHOD FOR PRODUCING METAL MASK FOR VAPOR DEPOSITION, AND SUBSTRATE FOR FORMING METAL MASK FOR VAPOR DEPOSITION
(FR) MASQUE MÉTALLIQUE POUR DÉPÔT EN PHASE VAPEUR, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE MASQUE MÉTALLIQUE POUR DÉPÔT EN PHASE VAPEUR, ET SUBSTRAT POUR FORMER UN MASQUE MÉTALLIQUE POUR DÉPÔT EN PHASE VAPEUR
(JA) 蒸着用メタルマスク、蒸着用メタルマスクの製造方法、および、蒸着用メタルマスク形成基材
Abstract: front page image
(EN)This electroformed metal mask for vapor deposition comprises hole inner peripheral surfaces 321S defining mask holes 321H each of which has a frustum shape and has a large opening 322F as the bottom portion thereof. In a cross-section perpendicular to the front surface: a slope angle θ between the rear surface and a virtual straight line Li connecting the large opening 322F to a small opening 322B is 50-85°; and the distance between the front surface and the rear surface is represented by a thickness H, the distance, on a reference plane Pi which is parallel to the rear surface and which is disposed at a distance of (2/3)×H from the rear surface, between the hole inner peripheral surface 321S and the virtual straight line is represented by a recessed amount A, and 0<[(3×tanθ)×A]/H≤0.3 is satisfied.
(FR)L'invention concerne un masque métallique électroformé pour dépôt en phase vapeur comprenant des surfaces périphériques internes de trou 321S définissant des trous de masque 321H dont chacun a une forme tronconique et ayant une grande ouverture 322F en tant que partie inférieure de celui-ci. Dans une section transversale perpendiculaire à la surface avant : un angle de pente θ entre la surface arrière et une ligne droite virtuelle Li reliant la grande ouverture 322F à une petite ouverture 322B est de 50 à 85° ; et la distance entre la surface avant et la surface arrière est représentée par une épaisseur H, la distance, sur un plan de référence Pi qui est parallèle à la surface arrière et qui est disposée à une distance de (2/3)×H à partir de la surface arrière, entre la surface périphérique interne de trou 321S et la ligne droite virtuelle est représentée par une quantité évidée A, et 0 < [(3×tanθ)×A]/H ≤ 0,3 est satisfait.
(JA)電鋳製の蒸着用メタルマスクであって、大開口322Fを底部とした錐台状を有するマスク孔321Hを区画する孔内周面321Sとを備える。表面と直交する断面において大開口322Fと小開口322Bとを結ぶ仮想直線Liと、裏面とのなす傾斜角度θが50°以上85°以下であり、表面と裏面との距離が厚さHであり、裏面と平行であるとともに裏面との距離が(2/3)×Hである基準面Piにおいて孔内周面321Sと仮想直線との距離が窪み量Aであり、0<[(3×tanθ)×A]/H≦0.3を満たす。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)