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1. (WO2017204090) RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD
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Pub. No.:    WO/2017/204090    International Application No.:    PCT/JP2017/018746
Publication Date: 30.11.2017 International Filing Date: 18.05.2017
IPC:
G03F 7/004 (2006.01), C01G 19/02 (2006.01), C01G 23/053 (2006.01), C01G 25/02 (2006.01), C01G 27/02 (2006.01), C01G 35/00 (2006.01), C01G 41/02 (2006.01), G03F 7/038 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: JSR CORPORATION [JP/JP]; 9-2, Higashi-Shinbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058640 (JP)
Inventors: SHIRATANI Motohiro; (JP)
Agent: AMANO Kazunori; (JP)
Priority Data:
2016-105607 26.05.2016 JP
Title (EN) RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD
(FR) COMPOSITION SENSIBLE AUX RAYONNEMENTS ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF
(JA) 感放射線性組成物及びパターン形成方法
Abstract: front page image
(EN)The purpose of the present invention is to provide a radiation-sensitive composition that has superior storage stability and in which deterioration of LWR performance, resolution, and sensitivity over time is suppressed. The present invention is a radiation-sensitive composition that contains: particles in which the principal component thereof is a metal oxide; an aggregation inhibitor that suppresses aggregation of the aforementioned particles; and an organic solvent. It is preferable that the aforementioned aggregation inhibitor be a compound possessing dehydration capacity. It is preferable that the aforementioned compound possessing dehydration capacity be carboxylic acid anhydride, orthocarboxylic acid ester, carboxylic acid halide, or a combination of these compounds. It is also preferable that the aforementioned aggregation inhibitor be a compound with which a metal atom can be ligated. It is preferable that the aforementioned compound be represented by formula (1). In formula (1), R1 is an n-valent organic group. X is -OH, -COOH, -NCO, -NHRa, -COORA, or -CO-C(RL)2-CO-RA. Symbol n is an integer between 1 and 4. It is preferable that the contained amount of the aforementioned aggregation inhibitor be 0.001 parts by mass or greater relative to 100 parts by mass of the aforementioned particles.
(FR)L'invention concerne une composition sensible aux rayonnements dotée d'une stabilité de stockage supérieure et dont la dégradation au fil du temps des performances de rugosité de bord de ligne (LWR), de la résolution et de la sensibilité est supprimée. La composition selon l'invention contient : des particules dont le composant principal est un oxyde métallique ; un inhibiteur d'agrégation supprimant l'agrégation desdites particules ; et un solvant organique. Ledit inhibiteur d'agrégation est de préférence un composé doté d'une capacité de déshydratation. Ledit composé doté d'une capacité de déshydratation est de préférence un anhydride d'acide carboxylique, un ester d'acide orthocarboxylique, un halogénure d'acide carboxylique ou une combinaison de ces composés. Ledit inhibiteur d'agrégation est également de préférence un composé auquel peut être lié un atome de métal. Ledit composé est de préférence représenté par la formule (1). Dans la formule (1), R1 est un groupe organique de valence n. X représente -OH, -COOH, -NCO, -NHRa, -COORA ou -CO-C(RL)2-CO-RA. Le symbole n est un entier entre 1 et 4. La quantité contenue dudit inhibiteur d'agrégation est de préférence de 0,001 partie en masse ou supérieure, par rapport à 100 parties en masse desdites particules.
(JA)保存安定性に優れ、LWR性能、解像性及び感度の経時低下が抑制された感放射線性組成物の提供を目的とする。本発明は、金属酸化物を主成分とする粒子と、上記粒子の凝集を抑制する凝集抑制剤と、有機溶媒とを含有する感放射線性組成物である。上記凝集抑制剤としては脱水能を有する化合物が好ましい。上記脱水能を有する化合物としては、カルボン酸無水物、オルトカルボン酸エステル、カルボン酸ハライド又はこれらの組み合わせが好ましい。上記凝集抑制剤としては、金属原子に配位しうる化合物も好ましい。上記化合物としては、下記式(1)で表されることが好ましい。下記式(1)中、Rは、n価の有機基である。Xは、-OH、-COOH、-NCO、-NHR、-COOR又は-CO-C(R-CO-Rである。nは、1~4の整数である。上記粒子100質量部に対する上記凝集抑制剤の含有量としては、0.001質量部以上が好ましい。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)