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1. (WO2017202134) MASK MANAGEMENT SYSTEM AND MASK USE METHOD
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Pub. No.:    WO/2017/202134    International Application No.:    PCT/CN2017/078428
Publication Date: 30.11.2017 International Filing Date: 28.03.2017
IPC:
G03F 1/66 (2012.01)
Applicants: BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD. [CN/CN]; No.10 Jiuxianqiao Rd., Chaoyang District Beijing 100015 (CN).
ORDOS YUANSHENG OPTOELECTRONICS CO., LTD. [CN/CN]; Ordos Equipment Manufacturing Base, Dongsheng District Ordos, Inner Mongolia 017020 (CN)
Inventors: ZHANG, Xiaohua; (CN).
LIU, Shaohua; (CN).
LIU, Zhenyu; (CN).
YAN, Dong; (CN).
CUI, Fuyi; (CN)
Agent: LIU, SHEN & ASSOCIATES; 10th Floor, Building 1, 10 Caihefang Road, Haidian District Beijing 100080 (CN)
Priority Data:
201610354130.4 25.05.2016 CN
Title (EN) MASK MANAGEMENT SYSTEM AND MASK USE METHOD
(FR) SYSTÈME DE GESTION DE MASQUES ET PROCÉDÉ D’UTILISATION DE MASQUES
(ZH) 掩膜版管理系统以及掩膜版使用方法
Abstract: front page image
(EN)A mask management system (1) and a mask use method. The mask management system (1), comprises: a mask feeding module (11) configured to provide at least one mask group (100), each mask group (100) comprising a cartridge (101) and a plurality of masks (102) placed in the cartridge (101); a mask detecting and processing module (12) configured to detect the plurality of masks (102) in the mask group (100) and perform, according to a detection result, corresponding masking processing on the masks (102) need to be processed; and a mask classification module (13) configured to readjust the processed and qualified masks (102) into the cartridge (101) of the mask group (100) to which the masks (102) belong. The mask management system (1) and the mask use method can perform refined management and control and are favorable for improving production efficiency.
(FR)L’invention concerne un système de gestion de masques (1) et un procédé d’utilisation de masques. Le système de gestion de masques (1) comprend : un module d’alimentation de masques (11) conçu pour fournir au moins un groupe de masques (100), chaque groupe de masques (100) comprenant une cartouche (101) et une pluralité de masques (102) placés dans la cartouche (101) ; un module de détection et de traitement de masques (12) conçu pour détecter la pluralité de masques (102) dans le groupe de masques (100) et effectuer, en fonction d’un résultat de la détection, un traitement de masquage correspondant sur les masques (102) devant être traités ; et un module de classification de masques (13) conçu pour réajuster les masques traités et qualifiés (102) dans la cartouche (101) du groupe de masques (100) auquel les masques (102) appartiennent. Le système de gestion de masques (1) et le procédé d’utilisation de masques permettent d’affiner la gestion et la commande et d’améliorer le rendement de production.
(ZH)掩膜版管理系统(1)以及掩膜版使用方法。该掩膜版管理系统(1)包括:掩膜版投入模块(11),其被配置来提供至少一个掩膜版组(100),每个掩膜版组(100)包括一个卡匣(101)和放置在卡匣(101)内的多个掩膜版(102);掩膜版检测和处理模块(12),其被配置来检测掩膜版组(100)中的多个掩膜版(102),并根据检测结果对需要处理的掩膜版(102)进行对应的掩膜版处理;掩膜版分类模块(13),其被配置来将经过处理并合格的掩膜版(102)重新调整到掩膜版(102)所属的掩膜版组(100)的卡匣(101)中。该掩膜版管理系统(1)以及掩膜版使用方法可进行精细化的管控,有利于提高生产效率。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)