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1. (WO2017201098) SYSTEMS AND METHODS FOR AUTOMATIC CORRECTION OF DRIFT BETWEEN INSPECTION AND DESIGN FOR MASSIVE PATTERN SEARCHING
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Pub. No.:    WO/2017/201098    International Application No.:    PCT/US2017/032975
Publication Date: 23.11.2017 International Filing Date: 16.05.2017
IPC:
H01L 21/66 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01), H01L 21/768 (2006.01)
Applicants: KLA-TENCOR CORPORATION [US/US]; Legal Department One Technology Drive Milpitas, California 95035 (US)
Inventors: TSENG, Chi-Yuan (Ken); (TW).
HSUEH, Ming-Hsiang (Alan); (TW)
Agent: MCANDREWS, Kevin; (US).
MORRIS, Elizabeth M .N.; (US)
Priority Data:
62/337,618 17.05.2016 US
15/594,300 12.05.2017 US
Title (EN) SYSTEMS AND METHODS FOR AUTOMATIC CORRECTION OF DRIFT BETWEEN INSPECTION AND DESIGN FOR MASSIVE PATTERN SEARCHING
(FR) SYSTÈMES ET PROCÉDÉS DE CORRECTION AUTOMATIQUE DE DÉRIVE ENTRE INSPECTION ET CONCEPTION POUR RECHERCHE MASSIVE DE MOTIFS
Abstract: front page image
(EN)Systems and methods for automatic correction of drift between inspection and design for massive pattern searching are disclosed herein. Defects are identified in a scan of a wafer. The defects are associated with tool coordinates. An SEM review tool captures centered images of the defects. The SEM review tool is aligned with the wafer using design polygons in an imported design file. Design coordinates are exported and used to define patterns of interest and identifying locations of those patterns of interest.
(FR)L'invention concerne des systèmes et des procédés de correction automatique de dérive entre l'inspection et la conception pour la recherche massive de motifs. Des défauts sont identifiés dans un balayage d'une tranche. Les défauts sont associés à des coordonnées d'outil. Un outil d'examen au microscope électronique à balayage (MEB) capture des images centrées des défauts. L'outil d'examen MEB est aligné avec la tranche à l'aide de polygones de conception dans un fichier de conception importé. Des coordonnées de conception sont exportées et utilisées pour définir des motifs d'intérêt et identifier des emplacements de ces motifs d'intérêt.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)