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1. (WO2017200696) GAS DISTRIBUTION SHOWERHEAD FOR SEMICONDUCTOR PROCESSING
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Pub. No.:    WO/2017/200696    International Application No.:    PCT/US2017/028641
Publication Date: 23.11.2017 International Filing Date: 20.04.2017
IPC:
H01L 21/205 (2006.01), H01L 21/683 (2006.01), H01L 21/687 (2006.01)
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054 (US)
Inventors: NGUYEN, Anh N.; (US).
LUBOMIRSKY, Dmitry; (US).
SAMIR, Mehmet Tugrul; (US)
Agent: PATTERSON, B. Todd; (US).
TACKETT, Keith M.; (US)
Priority Data:
62/339,200 20.05.2016 US
Title (EN) GAS DISTRIBUTION SHOWERHEAD FOR SEMICONDUCTOR PROCESSING
(FR) POMME DE DOUCHE DE DISTRIBUTION DE GAZ POUR TRAITEMENT DE SEMI-CONDUCTEURS
Abstract: front page image
(EN)Embodiments disclosed herein generally relate to a gas distribution assembly for providing improved uniform distribution of processing gases into a semiconductor processing chamber. The gas distribution assembly includes a gas distribution plate, a blocker plate, and a dual zone showerhead. The gas distribution assembly provides for independent center to edge flow zonality, independent two precursor delivery, two precursor mixing via a mixing manifold, and recursive mass flow distribution in the gas distribution plate.
(FR)Des modes de réalisation de l'invention concernent généralement un ensemble de distribution de gaz permettant d'obtenir une distribution uniforme améliorée des gaz de traitement dans une chambre de traitement de semi-conducteurs. L'ensemble de distribution de gaz comprend une plaque de distribution de gaz, une plaque de blocage et une pomme de douche à deux zones. L'ensemble de distribution de gaz fournit une zonalité d'écoulement de centre à bord indépendante, deux distributions de précurseur indépendantes, deux mélanges de précurseur par l'intermédiaire d'un collecteur de mélange, et une distribution de débit massique récursive dans la plaque de distribution de gaz.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)