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1. (WO2017200055) CELL CULTURE SUBSTRATUM, METHOD FOR PRODUCING CELL-CONTAINING MATERIAL, METHOD FOR PRODUCING CELL CULTURE SUBSTRATUM, METHOD FOR OBSERVING CELLS, AND CELL CULTURE SUBSTRATUM MAINTENANCE LIQUID
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Pub. No.:    WO/2017/200055    International Application No.:    PCT/JP2017/018725
Publication Date: 23.11.2017 International Filing Date: 18.05.2017
IPC:
C12M 3/00 (2006.01), C12M 1/34 (2006.01), C12N 1/00 (2006.01), C12N 5/07 (2010.01)
Applicants: OHARA QUARTZ CO.,LTD. [JP/JP]; 1850, Minato, Wakayama-shi, Wakayama 6408404 (JP).
NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION NAGAOKA UNIVERSITY OF TECHNOLOGY [JP/JP]; 1603-1, Kamitomioka-machi, Nagaoka-shi, Niigata 9402188 (JP).
NATIONAL INSTITUTE OF TECHNOLOGY [JP/JP]; 701-2 Higashiasakawa-machi, Hachioji-shi, Tokyo 1930834 (JP)
Inventors: INUI, Masahiko; (JP).
CHATANI, Sunao; (JP).
TAGAYA, Motohiro; (JP).
MOTOZUKA, Satoshi; (JP)
Agent: SHOBAYASHI, Masayuki; (JP).
HAYASHI, Kazuyoshi; (JP)
Priority Data:
2016-101029 20.05.2016 JP
Title (EN) CELL CULTURE SUBSTRATUM, METHOD FOR PRODUCING CELL-CONTAINING MATERIAL, METHOD FOR PRODUCING CELL CULTURE SUBSTRATUM, METHOD FOR OBSERVING CELLS, AND CELL CULTURE SUBSTRATUM MAINTENANCE LIQUID
(FR) SUBSTRAT DE CULTURE CELLULAIRE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE MATÉRIAU CONTENANT DES CELLULES, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE SUBSTRAT DE CULTURE CELLULAIRE, PROCÉDÉ D'OBSERVATION DE CELLULES ET LIQUIDE DE CONSERVATION DE SUBSTRAT DE CULTURE CELLULAIRE
(JA) 細胞培養基材、細胞含有物の作製方法、細胞培養基材の作製方法、細胞観察方法、細胞培養基材のメンテナンス液
Abstract: front page image
(EN)The purpose of the present invention is to provide a cell culture substratum which has excellent resistance to liquid culture media and low cytotoxicity, can achieve a high cell adhesion ratio and a high viability of cultured cells, has excellent thermal stability, and is less likely to absorbs ultraviolet ray. A cell culture substratum which is provided with a substrate made from an inorganic material and has multiple concavo-convex structures on a culturing surface thereof, wherein, when the concavo-convex structures are measured with an atomic force microscope in accordance with JISB0601 and JISR1683 (measured area: a 1 μm-square, cut-off value of a low-pass contour curve filter: 1 nm, cut-off value of a high-pass contour curve filter: 170 nm), the average of the lengths of contour curve elements of the concavo-convex structures is 1 to 170 nm as measured in at least one direction (when a curve showing long-wavelength components that are blocked by the high-pass contour curve filter is converted to a straight line by the least square method, the average line is a line that is parallel with the straight line and indicates a height cumulative relative frequency distribution in the contour curve of 50%).
(FR)Le but de la présente invention consiste à fournir un substrat de culture cellulaire qui présente une excellente résistance aux milieux de culture liquides et une faible cytotoxicité, qui permet d'obtenir un taux d'adhérence cellulaire élevé et une viabilité élevée des cellules cultivées, qui présente une excellente stabilité thermique et qui est moins susceptible d'absorber les rayons ultraviolets. L'invention porte sur un substrat de culture cellulaire qui est pourvu d'un substrat fait d'un matériau inorganique et qui présente de multiples structures concavo-convexes sur une surface de culture correspondante, où, lorsque les structures concavo-convexes sont mesurées avec un microscope à force atomique conformément aux normes JISB0601 et JISR1683 (zone mesurée : un carré de 1 µm de côté, valeur de seuil d'un filtre de courbe de contour passe-bas : 1 nm, valeur de seuil d'un filtre de courbe de contour passe-haut : 170 nm), la moyenne des longueurs des éléments de courbe de contour des structures concavo-convexes est de 1 à 170 nm, telle que mesurée dans au moins une direction (lorsqu'une courbe présentant des composantes de grande longueur d'onde qui sont bloquées par le filtre de courbe de contour passe-haut est convertie en une ligne droite par la méthode des moindres carrés, la ligne moyenne est une ligne qui est parallèle à la ligne droite et indique une distribution relative cumulative en hauteur des fréquences dans la courbe de contour de 50 %).
(JA)本発明の目的は、耐培養液性に優れ、細胞低毒性であり、かつ、培養した細胞の接着率や生細胞率が高く、熱安定性に優れ、また紫外光を吸収しにくい細胞培養基材を提供することである。 無機材料で構成された基板を備える細胞培養基材において、細胞培養基材は、培養面に複数の凹凸構造を有し、JISB0601及びJISR1683に準拠して原子間力顕微鏡で凹凸構造を測定したときに(測定領域は1μm四方、ローパス用輪郭曲線フィルタのカットオフ値が1nm、ハイパス用輪郭曲線フィルタのカットオフ値が170nmである)、少なくとも1つの方向についての凹凸構造の輪郭曲線要素の長さの平均が1~170nmである(平均線は、前記ハイパス用輪郭曲線フィルタにより遮断される長波長成分を表す曲線を最小二乗法により直線に補正したとき、その直線と平行かつ、輪郭曲線における高さの累積相対度数分布50%を示す線である)。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)