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1. (WO2017199521) SELF-ASSEMBLY COMPOSITION FOR PATTERN FORMATION, AND PATTERN FORMATION METHOD
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Pub. No.:    WO/2017/199521    International Application No.:    PCT/JP2017/007321
Publication Date: 23.11.2017 International Filing Date: 27.02.2017
IPC:
C08F 293/00 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Applicants: OJI HOLDINGS CORPORATION [JP/JP]; 7-5, Ginza 4-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040061 (JP)
Inventors: MORITA Kazuyo; (JP).
HATTORI Kimiko; (JP)
Agent: SIKS & CO.; 8th Floor, Kyobashi-Nisshoku Bldg., 8-7, Kyobashi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040031 (JP)
Priority Data:
2016-101455 20.05.2016 JP
Title (EN) SELF-ASSEMBLY COMPOSITION FOR PATTERN FORMATION, AND PATTERN FORMATION METHOD
(FR) COMPOSITION D'AUTO-ASSEMBLAGE POUR LA FORMATION DE MOTIFS ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIFS
(JA) パターン形成用自己組織化組成物及びパターン形成方法
Abstract: front page image
(EN)The present invention addresses the problem of providing a self-assembly composition for pattern formation which is applicable to a wide range of pattern sizes and is capable of forming a satisfactory phase separation structure. The present invention relates to a self-assembly composition for pattern formation which includes a block copolymer comprising a polymer moiety a having a structure represented by general formula (103) and/or a structure represented by general formula (104) and a polymer moiety b having a structure represented by general formula (105), the block copolymer having sugar moiety content of 3-80 mass% with respect to the whole mass of the block copolymer. AA General formula
(FR)La présente invention traite le problème consistant à fournir une composition d'auto-assemblage pour la formation de motifs qui est applicable à une large gamme de tailles de motifs et qui est capable de former une structure de séparation de phases satisfaisante. La présente invention concerne une composition d'auto-assemblage pour la formation de motifs qui comprend un copolymère séquencé comprenant une fraction polymère a ayant une structure représentée par la formule générale (103) et/ou une structure représentée par la formule générale (104) et une fraction polymère b ayant une structure représentée par la formule générale (105), le copolymère séquencé ayant une teneur en fraction sucre de 3 à 80 % en masse par rapport à la masse totale du copolymère séquencé. FIG. 2: AA%%%Formule générale
(JA)本発明は、パターンサイズの適応可能範囲が広く、かつ良好な相分離構造を形成し得るパターン形成用自己組織化組成物を提供することを課題とする。本発明は、下記一般式(103)で表される構造、及び下記一般式(104)で表される構造から選択される少なくとも一方を有する重合部aと、下記一般式(105)で表される構造を有する重合部bと、を含むブロックコポリマーを含有し、ブロックコポリマーにおける糖部の含有率は、ブロックコポリマーの全質量に対して、3質量%以上80質量%以下であるパターン形成用自己組織化組成物に関する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)