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1. (WO2017199475) LIQUID PROCESSING UNIT AND LIQUID PROCESSING DEVICE
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Pub. No.:    WO/2017/199475    International Application No.:    PCT/JP2017/003179
Publication Date: 23.11.2017 International Filing Date: 30.01.2017
IPC:
C02F 3/34 (2006.01), H01M 8/04 (2016.01), H01M 8/16 (2006.01)
Applicants: PANASONIC INTELLECTUAL PROPERTY MANAGEMENT CO., LTD. [JP/JP]; 1-61, Shiromi 2-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5406207 (JP)
Inventors: KAMAI Ryo; (--).
SUZUKI Yuya; (--).
YOSHIKAWA Naoki; (--).
YAGUCHI Mitsuo; (--)
Agent: ITO Masakazu; (JP).
MATSUMOTO Takayoshi; (JP).
HOSOKAWA Satoru; (JP).
MORI Futoshi; (JP)
Priority Data:
2016-098659 17.05.2016 JP
Title (EN) LIQUID PROCESSING UNIT AND LIQUID PROCESSING DEVICE
(FR) UNITÉ DE TRAITEMENT DE LIQUIDE ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE LIQUIDE
(JA) 液体処理ユニット及び液体処理装置
Abstract: front page image
(EN)A liquid processing unit (1) is provided with a liquid processing structure (40) having a first surface (40a) and a second surface (40b), and having a space between the first surface and the second surface in which hydrogen ions or hydroxide ions move. Furthermore, the liquid processing unit is provided with an oxygen concentration control unit (200) for mechanically controlling the concentration of oxygen supplied to the second surface. Moreover, the second surface is in contact with a hollow section (50) having a gas containing oxygen, and the oxygen concentration control unit is installed in the hollow section. A liquid processing device (100) is provided with the liquid processing unit, and a processing tank (80) for retaining the liquid processing unit and a liquid to be processed (90) therewithin.
(FR)La présente invention concerne une unité de traitement de liquide (1) qui est pourvue d'une structure de traitement de liquide (40) ayant une première surface (40a) et une deuxième surface (40b), et ayant un espace entre la première surface et la deuxième surface dans laquelle des ions hydrogène ou des ions hydroxyde se déplacent. En outre, l'unité de traitement de liquide est pourvue d'une unité de régulation de concentration d'oxygène (200) pour réguler mécaniquement la concentration d'oxygène fournie à la deuxième surface. De plus, la deuxième surface est en contact avec une section creuse (50) contenant un gaz contenant de l'oxygène, et l'unité de régulation de concentration d'oxygène est installée dans la section creuse. Un dispositif de traitement de liquide (100) est pourvu de l'unité de traitement de liquide, et d’un réservoir de traitement (80) pour retenir l'unité de traitement de liquide et un liquide devant être traité (90) dans celui-ci.
(JA)液体処理ユニット(1)は、第一の面(40a)及び第二の面(40b)を有し、第一の面と第二の面との間に水素イオン又は水酸化物イオンが移動する空間を有する液体処理構造体(40)を備える。さらに液体処理ユニットは、第二の面に供給する酸素の濃度を機械的に制御する酸素濃度制御部(200)を備える。そして、第二の面は酸素を含む気体を有する空間部(50)と接触しており、空間部には酸素濃度制御部が取り付けられている。液体処理装置(100)は、液体処理ユニットと、液体処理ユニット及び被処理液(90)を内部に保持するための処理槽(80)とを備える。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)