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1. (WO2017199468) METHOD FOR FORMING INTERNAL STRESS CONTROL FILM
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Pub. No.:    WO/2017/199468    International Application No.:    PCT/JP2017/002484
Publication Date: 23.11.2017 International Filing Date: 25.01.2017
IPC:
C23C 14/34 (2006.01), C23C 14/06 (2006.01), H01L 21/28 (2006.01), H01L 21/285 (2006.01), H01L 21/3205 (2006.01), H01L 21/768 (2006.01), H01L 23/522 (2006.01)
Applicants: ULVAC, INC. [JP/JP]; 2500, Hagisono, Chigasaki-shi, Kanagawa 2538543 (JP)
Inventors: NAKANO Katsuaki; (JP).
HIRAMATSU Daisuke; (JP).
NUMATA Yukinobu; (JP)
Agent: SHIGA Masatake; (JP).
SUZUKI Shingo; (JP)
Priority Data:
2016-098158 16.05.2016 JP
Title (EN) METHOD FOR FORMING INTERNAL STRESS CONTROL FILM
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM DE RÉGULATION DES CONTRAINTES INTERNES
(JA) 内部応力制御膜の形成方法
Abstract: front page image
(EN)This method for forming an internal stress control film forms an internal stress control film on one surface of an object to be treated by sputtering. The pressure of a process gas used in forming the internal stress control film is selected from a pressure range which is higher than a threshold value 5 (Pa). This method forms an internal stress control film with high density in which when a bias is applied to the object, the stress to the object is more tensile than when no bias is applied.
(FR)Cette invention concerne un procédé de formation d'un film de régulation des contraintes internes, comprenant la formation d'un film de régulation des contraintes internes sur une surface d'un objet à traiter par pulvérisation. La pression d'un gaz de traitement utilisé pour former le film de régulation des contraintes internes est sélectionnée dans une plage de pressions qui est supérieure à une valeur seuil de 5 (Pa). Ce procédé forme un film de régulation des contraintes internes de haute densité dans lequel lorsqu'une sollicitation est appliquée à l'objet, la contrainte sur l'objet est plus élastique que dans le cas où aucune sollicitation n'est appliquée.
(JA)内部応力制御膜の形成方法は、スパッタリング法により被処理体の一面に内部応力制御膜を形成し、前記内部応力制御膜を成膜する際のプロセスガスの圧力が、閾値5(Pa)より高い圧力領域から選択され、かつ、前記被処理体にBiasを印加した際の被処理体のStressがBiasを印加しない場合のStressに比べてTensile側に大きなStressであり、高い密度を有する内部応力制御膜を形成する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)