WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2017195586) CURABLE COMPOSITION FOR PHOTOIMPRINTING AND PATTERN TRANSFER METHOD USING SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau    Submit observation

Pub. No.:    WO/2017/195586    International Application No.:    PCT/JP2017/016300
Publication Date: 16.11.2017 International Filing Date: 25.04.2017
IPC:
C08F 2/46 (2006.01), B29C 59/02 (2006.01), C08F 299/08 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Applicants: DIC CORPORATION [JP/JP]; 35-58, Sakashita 3-chome, Itabashi-ku, Tokyo 1748520 (JP)
Inventors: IBE Takeshi; (JP).
YADA Makoto; (JP)
Agent: KONO Michihiro; (JP)
Priority Data:
2016-095302 11.05.2016 JP
Title (EN) CURABLE COMPOSITION FOR PHOTOIMPRINTING AND PATTERN TRANSFER METHOD USING SAME
(FR) COMPOSITION DURCISSABLE POUR PHOTO-IMPRESSION ET PROCÉDÉ DE TRANSFERT DE MOTIFS L'UTILISANT
(JA) 光インプリント用硬化性組成物及びそれを用いたパターン転写方法
Abstract: front page image
(EN)The present invention address the problem of providing a curable composition for photoimprinting that contains a polymerizable compound containing a silicon atom such as a polysiloxane and has excellent adhesion to a substrate and release property in a fine pattern mold, as well as very little mold contamination. The problem is solved by providing a curable composition for photoimprinting including a polymerizable compound containing a silicon atom in the molecule (A), a photopolymerization initiator (B), and an additive (C), the curable composition for photoimprinting being characterized in that the additive (C) is a compound represented by formula (C1) or formula (C2) [In formula (C1), R1 is a C12-30 alkyl group, X1 is a hydrogen atom or acyl group, and n is an integer of 0-50. In formula (C2), X2 and X3 are each independently a hydrogen atom or acyl group, and p, q, and r are each independently an integer of 1-50.].
(FR)Le problème à la base de la présente invention concerne une composition durcissable pour la photo-impression, qui contient un composé polymérisable contenant un atome de silicium, tel qu'un polysiloxane, et qui présente d'excellentes propriétés d'adhérence à un substrat et de démoulage dans un moule à motif fin, ainsi qu'une très faible contamination du moule. Le problème est résolu par une composition durcissable pour photo-impression comprenant un composé polymérisable contenant un atome de silicium dans la molécule (A), un initiateur de photopolymérisation (B) et un additif (C), la composition durcissable pour photo-impression étant caractérisée en ce que l'additif (C) est un composé représenté par la formule (C1) ou la formule (C2) [dans la formule (C1), R1 représente un groupe alkyle en C12-30, X1 représente un atome d'hydrogène ou un groupe acyle et n est un entier de 0 à 50. Dans la formule (C2), X2 et X3 représentent chacun indépendamment un atome d'hydrogène ou un groupe acyle et p, q, et r représentent chacun indépendamment un nombre entier de 1 à 50.]
(JA)本発明が解決しようとする課題は、ポリシロキサン等のケイ素原子を含有する重合性化合物を含有し、基板への密着性及び微細パターンモールドでの離型性に優れ、かつ、モールド汚染が非常に少ないインプリント用硬化性組成物を提供することである。 分子中にケイ素原子を含有する重合性化合物(A)と、光重合開始剤(B)と、添加剤(C)とを含む光インプリント用硬化性組成物であって、前記添加剤(C)が、下記式(C1): 又は下記式(C2): [式(C1)中のRは炭素数12~30のアルキル基であり、Xは水素原子又はアシル基であり、nは0~50の整数である。式(C2)中のX及びXは、各々独立に、水素原子又はアシル基を表し、p、q、rは各々独立に1~50の整数である。]で表される化合物であることを特徴とする、光インプリント用硬化性組成物を提供することで、上記課題を解決する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)