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1. (WO2017195549) COATING FILM FORMING DEVICE, COATING FILM FORMING METHOD, AND STORAGE MEDIUM
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Pub. No.:    WO/2017/195549    International Application No.:    PCT/JP2017/015718
Publication Date: 16.11.2017 International Filing Date: 19.04.2017
IPC:
H01L 21/027 (2006.01), B05C 11/08 (2006.01), B05C 11/10 (2006.01), B05D 1/40 (2006.01), G03F 7/16 (2006.01)
Applicants: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-1, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1076325 (JP)
Inventors: SHIBATA, Naoki; (JP).
HATAKEYAMA, Shinichi; (JP)
Agent: YAYOY PATENT OFFICE; (JP)
Priority Data:
2016-097132 13.05.2016 JP
Title (EN) COATING FILM FORMING DEVICE, COATING FILM FORMING METHOD, AND STORAGE MEDIUM
(FR) DISPOSITIF DE FORMATION DE FILM DE REVÊTEMENT, PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM DE REVÊTEMENT, ET SUPPORT DE STOCKAGE
(JA) 塗布膜形成装置、塗布膜形成方法及び記憶媒体
Abstract: front page image
(EN)[Problem] To provide technology that can suppress mixing in of bubbles in a coating film in the formation of a coating film on a substrate. [Solution] Processing is performed so as to execute: a first step for supplying a coating liquid to a substrate and locally forming a liquid puddle A1 in a center part of the substrate; a second step for next supplying a diluent to the peripheral part of the liquid puddle A1 and forming a mixed liquid A2; and a third step for next rotating the substrate, spreading the mixed liquid A2 toward the peripheral edge parts of the substrate by centrifugal force, to coat the peripheral edge parts of the substrate with the mixed liquid A2, and spreading the puddle toward the peripheral edge parts of the substrate coated by the mixed liquid A2 to form a coating film.
(FR)Le problème décrit par l'invention est d'élaborer une technologie qui permet de supprimer le mélange de bulles dans un film de revêtement lors de la formation d'un film de revêtement sur un substrat. Selon la solution de l'invention, un traitement est effectué de manière à exécuter : une première étape consistant à amener un liquide de revêtement à un substrat et à former localement un bain de liquide A1 dans une partie centrale du substrat; une deuxième étape consistant ensuite à amener un diluant à la partie périphérique du bain de liquide A1 et à former un liquide mixte A2; et une troisième étape consistant ensuite à faire tourner le substrat, à étaler le liquide mixte A2 vers les parties de bord périphérique du substrat par la force centrifuge, à revêtir les parties de bord périphérique du substrat avec le liquide mixte A2, et à étaler le bain vers les parties de bord périphérique du substrat revêtu par le liquide mixte A2 pour former un film de revêtement.
(JA)【課題】基板に塗布膜を形成するにあたり、塗布膜における気泡の混入を抑えることができる技術を提供すること。 【解決手段】 基板に塗布液を供給して当該基板の中心部に局所的な液溜まりA1を形成する第1のステップと、次いで前記液溜まりA1の周縁部に限定的に希釈液を供給して混合液A2を形成する第2のステップと、続いて前記基板を回転させ、遠心力によって前記混合液A2を前記基板の周縁部に向けて展伸させて基板の周縁部を当該混合液A2により被覆し、前記液溜まりを当該混合液A2に被覆された基板の周縁部に向けて展伸させて前記塗布膜を形成する第3のステップと、が実施されるように処理を行う。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)