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1. (WO2017195460) TEMPLATE ASSEMBLY SORTING METHOD, WORKPIECE-POLISHING METHOD, AND TEMPLATE ASSEMBLY
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Pub. No.: WO/2017/195460 International Application No.: PCT/JP2017/010203
Publication Date: 16.11.2017 International Filing Date: 14.03.2017
IPC:
B24B 37/30 (2012.01) ,G01B 11/02 (2006.01) ,G01B 11/24 (2006.01) ,H01L 21/304 (2006.01)
Applicants: SHIN-ETSU HANDOTAI CO.,LTD.[JP/JP]; 2-1, Ohtemachi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000004, JP
Inventors: SATO Kazuya; JP
KAMIHAMA Naoki; JP
HASHIMOTO Hiromasa; JP
Agent: YOSHIMIYA Mikio; JP
KOBAYASHI Toshihiro; JP
Priority Data:
2016-09679413.05.2016JP
Title (EN) TEMPLATE ASSEMBLY SORTING METHOD, WORKPIECE-POLISHING METHOD, AND TEMPLATE ASSEMBLY
(FR) PROCÉDÉ DE TRI D'ENSEMBLES GABARITS, PROCÉDÉ DE POLISSAGE DE PIÈCE À TRAVAILLER ET ENSEMBLE GABARIT
(JA) テンプレートアセンブリの選別方法及びワークの研磨方法並びにテンプレートアセンブリ
Abstract: front page image
(EN) The present invention is a template assembly sorting method comprising: a step for preparing template assemblies in which a template with a back pad for holding the back surface of a workpiece and a retainer ring located on the back pad for holding the edge of the workpiece has been glued concentrically on a base ring or base plate with an outside diameter greater than the outside diameter of the template; a step for non-destructively measuring, on the template-side of the template assembly, the distributions of the retainer ring and back pad height positions when the peripheral surface of the base ring or base plate is used as a reference plane; a step for calculating the flatness of the retainer ring and the average level difference between the retainer ring and the back pad from the measured distributions of height positions; and a step for sorting the template assemblies on the basis of flatness and average level difference. Provided thereby is a template assembly sorting method with which variation in workpiece flatness after polishing can be adjusted.
(FR) La présente invention concerne un procédé de tri d'ensembles gabarit qui comprend les étapes suivantes : la préparation d'ensembles gabarits, un gabarit, pourvu d'un tampon arrière pour retenir la surface arrière d'une pièce à travailler et d'une bague de retenue disposée sur le tampon arrière pour retenir le bord de la pièce à travailler, ayant été collé de manière concentrique sur une bague de base ou une plaque de base dont le diamètre externe est supérieur au diamètre externe du gabarit ; la mesure non destructive, sur le côté gabarit de l'ensemble gabarit, des répartitions de la bague de retenue et des positions de hauteur du tampon arrière quand la surface périphérique de la bague de base ou de la plaque de base est utilisée comme plan de référence ; le calcul de la planéité de la bague de retenue et de la différence de niveau moyenne entre la bague de retenue et le tampon arrière à partir des répartition mesurées des positions de hauteur ; le tri des ensembles gabarits sur la base de la planéité et de la différence de niveau moyenne. L'invention porte par conséquent sur un procédé de tri d'ensembles gabarits avec lequel une variation de la planéité de la pièce à travailler après le polissage peut être ajustée.
(JA) 本発明は、ワークの裏面を保持するバックパッドと、バックパッド上に位置してワークのエッジ部を保持するリテーナリングとを有するテンプレートを、テンプレートの外径よりも大きな外径を有するベースリング又はベースプレート上に同心で貼り合わせたテンプレートアセンブリを準備する工程と、テンプレートアセンブリのテンプレート側において、ベースリング又はベースプレートの外周縁表面を基準面とした場合の、リテーナリング及びバックパッドの高さ位置の分布を非破壊で測定する工程と、測定した高さ位置の分布から、リテーナリングの平面度及び、リテーナリングとバックパッドの平均段差量を算出する工程と、平面度及び平均段差量に基づいて、テンプレートアセンブリを選別する工程とを有するテンプレートアセンブリの選別方法である。これにより、研磨後のワークのフラットネスのバラツキを調整することができるテンプレートアセンブリの選別方法が提供される。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)