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1. (WO2017194393) RADIATION CONDITIONING SYSTEM, ILLUMINATION SYSTEM AND METROLOGY APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING METHOD
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Pub. No.: WO/2017/194393 International Application No.: PCT/EP2017/060736
Publication Date: 16.11.2017 International Filing Date: 05.05.2017
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,G02B 27/09 (2006.01)
Applicants: ASML NETHERLANDS B.V.[NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventors: GOORDEN, Sebastianus, Adrianus; NL
TUKKER, Teunis, Willem; NL
DE WIT, Johannes, Matheus, Marie; NL
MERTES, Jonas; NL
VAN DER ZOUW, Gerbrand; NL
Agent: BROEKEN, Petrus; NL
Priority Data:
16169199.311.05.2016EP
Title (EN) RADIATION CONDITIONING SYSTEM, ILLUMINATION SYSTEM AND METROLOGY APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) SYSTÈME DE CONDITIONNEMENT DE RAYONNEMENT, SYSTÈME D'ÉCLAIRAGE ET APPAREIL DE MÉTROLOGIE, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
Abstract: front page image
(EN) Disclosed are an optical system for conditioning a beam of radiation, and an illumination system and metrology apparatus comprising such an optical system. The optical system comprises one or more optical mixing elements in an optical system. The optical system defines at least a first optical mixing stage, at least a second optical mixing stage, and at least one transformation stage, configured such that radiation entering the second optical mixing stage includes a transformed version of radiation exiting the first optical mixing stage. The first and second optical mixing stages can be provided using separate optical mixing elements, or by multiple passes through the same optical mixing element. The transformation stage can be a Fourier transformation stage. Both spatial distribution and angular distribution of illumination can be homogenized as desired.
(FR) L'invention concerne un système optique permettant le conditionnement d'un faisceau de rayonnement, ainsi qu'un système d'éclairage et un appareil de métrologie comprenant un tel système optique. Le système optique comprend un ou plusieurs éléments de mélange optique dans un système optique. Le système optique délimite au moins un premier étage de mélange optique, au moins un second étage de mélange optique et au moins un étage de transformation, configurés de telle sorte que le rayonnement pénétrant dans le second étage de mélange optique comprend une version transformée du rayonnement sortant du premier étage de mélange optique. Les premier et second étages de mélange optique peuvent être obtenus à l'aide d'éléments de mélange optique séparés, ou par de multiples passages à travers le même élément de mélange optique. L'étage de transformation peut être un étage de transformation de Fourier. La distribution spatiale aussi bien que la distribution angulaire de l'éclairage peuvent être homogénéisées selon les besoins.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)