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1. (WO2017194277) POSITION MEASUREMENT SYSTEM, CALIBRATION METHOD, LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
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Pub. No.: WO/2017/194277 International Application No.: PCT/EP2017/059255
Publication Date: 16.11.2017 International Filing Date: 19.04.2017
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,G01B 9/02 (2006.01) ,G02B 26/06 (2006.01) ,G02B 27/28 (2006.01)
Applicants: ASML NETHERLANDS B.V.[NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventors: IKKINK, Teunis, Jan; NL
Agent: RAS, Michael; NL
Priority Data:
16168724.909.05.2016EP
Title (EN) POSITION MEASUREMENT SYSTEM, CALIBRATION METHOD, LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) SYSTÈME DE MESURE DE POSITION, PROCÉDÉ D'ÉTALONNAGE, APPAREIL LITHOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
Abstract: front page image
(EN) The invention relates to a position measurement system (PMS) configured to measure a position of an object (GR), comprising: • - an optical system (20) to obtain a first measurement wave (12) and a second measurement wave (13) from a radiation source (10), and to allow the first and second measurement wave to at least partially interfere with each other after interaction of at least one of the first and second measurement wave with the object to form a first detection beam (15); • - a first detector (110) to receive the first detection beam; and • - a processing unit configured to receive an output from the first detector and to determine a signal representative for the position of the object from the output, wherein the optical system comprises a phase modulator (150) configured to modulate a phase difference between the first measurement wave and the second measurement wave.
(FR) L'invention concerne un système de mesure de position (PMS) conçu pour mesurer la position d'un objet (GR), comprenant : •- un système optique (20) permettant d'obtenir une première onde de mesure (12) et une seconde onde de mesure (13) en provenance d'une source de rayonnement (10), et permettant aux première et seconde ondes de mesure d'interférer au moins partiellement l'une avec l'autre après l'interaction d'au moins l'une des première et seconde ondes de mesure avec l'objet pour former un premier faisceau de détection (15) ; •- un premier détecteur (110) destiné à recevoir le premier faisceau de détection ; et •- une unité de traitement configurée pour recevoir une sortie du premier détecteur et pour déterminer à partir de la sortie un signal représentatif de la position de l'objet, le système optique comprenant un modulateur de phase (150) configuré pour moduler une différence de phase entre la première onde de mesure et la seconde onde de mesure.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)