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1. (WO2017194088) METHOD AND APPARATUS FOR VACUUM PROCESSING
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Pub. No.:    WO/2017/194088    International Application No.:    PCT/EP2016/060322
Publication Date: 16.11.2017 International Filing Date: 09.05.2016
IPC:
C23C 14/02 (2006.01), C23C 14/56 (2006.01)
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054 (US).
HANIKA, Markus [DE/DE]; (DE) (US only).
GRAW, Oliver [DE/DE]; (DE) (US only).
BERGER, Thomas [DE/DE]; (DE) (US only)
Inventors: HANIKA, Markus; (DE).
GRAW, Oliver; (DE).
BERGER, Thomas; (DE)
Agent: ZIMMERMANN & PARTNER PATENTANWÄLTE MBB; Josephspitalstr. 15 80331 München (DE)
Priority Data:
Title (EN) METHOD AND APPARATUS FOR VACUUM PROCESSING
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL POUR TRAITEMENT SOUS VIDE
Abstract: front page image
(EN)A method for vacuum processing of a substrate (10) is provided. The method includes irradiating a substrate surface (11) or a surface of a first material layer on the substrate (10) with ions using an ion etch source (130) provided in a processing region (110) while the substrate (10) is moved through the processing region (110) along a transportation path (20), moving the substrate (10) along the transportation path (20) into a deposition region (120), and depositing at least one second material layer over the substrate surface (11) or over the first material layer while the substrate (10) is stationary.
(FR)L’invention concerne un procédé de traitement sous vide d’un substrat (10). Le procédé consiste notamment à : irradier une surface de substrat (11) ou une surface d'une première couche de matériau sur le substrat (10) avec des ions, au moyen d'une source de gravure ionique (130) disposée dans une région de traitement (110), pendant que le substrat (10) est transporté à travers la région de traitement (110) le long d'un trajet de transport (20) ; déplacer le substrat (10) le long du trajet de transport (20) jusqu'à une région de dépôt (120) ; et déposer au moins une seconde couche de matériau sur la surface du substrat (11) ou sur la première couche de matériau tandis que le substrat (10) est stationnaire.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)