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1. (WO2017193453) WET-ETCHING DEVICE AND EXPLOSION-PROOF METHOD THEREOF
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Pub. No.:    WO/2017/193453    International Application No.:    PCT/CN2016/086435
Publication Date: 16.11.2017 International Filing Date: 20.06.2016
IPC:
H01L 21/67 (2006.01)
Applicants: SHENZHEN CHINA STAR OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO.,LTD. [CN/CN]; NO.9-2, Tangming Road, Guangming District of Shenzhen, Guangdong 518132 (CN)
Inventors: LI, Jia; (CN)
Agent: COMIPS INTELLECTUAL PROPERTY OFFICE; Room 15E, Shenkan Building, Shangbu Zhong Road, Futian District Shenzhen, Guangdong 518028 (CN)
Priority Data:
201610307235.4 10.05.2016 CN
Title (EN) WET-ETCHING DEVICE AND EXPLOSION-PROOF METHOD THEREOF
(FR) DISPOSITIF DE GRAVURE HUMIDE ET PROCÉDÉ ASSOCIÉ DE PROTECTION CONTRE LES EXPLOSIONS
(ZH) 湿法刻蚀装置及其防爆方法
Abstract: front page image
(EN)Provided in the present invention are a wet-etching device and an explosion-proof method thereof. The temperature inside a liquid storage tank (2) is monitored by a heater (22). If the temperature inside the liquid storage tank (2) reaches a preset temperature upper limit, the heater (22) is automatically turned off by a control device (23), and a chamber cleaning device (11) is turned on to spray cleaning water. The cleaning water rinses an etching reaction chamber (1), and then flows back to the liquid storage tank (2) and neutralizes an etching solution in the liquid storage tank (2), so as to reduce the temperature inside the liquid storage tank (2). The present invention can effectively monitor and timely reduce the temperature inside the liquid storage tank (2), and prevent an explosion caused by a high temperature inside the liquid storage tank (2), thereby ensuring production safety and improving production utilization.
(FR)L'invention concerne un dispositif de gravure humide et un procédé associé de protection contre les explosions. La température à l'intérieur d'un réservoir de stockage de liquide (2) est contrôlée par un dispositif de chauffage (22). Si la température à l'intérieur du réservoir de stockage de liquide (2) atteint une limite supérieure de température prédéterminée, le dispositif de chauffage (22) est automatiquement arrêté par un dispositif de commande (23) et un dispositif de nettoyage de chambre (11) est mis en marche pour pulvériser de l'eau de nettoyage. L'eau de nettoyage rince une chambre de réaction de gravure (1), puis s'écoule en retour vers le réservoir de stockage de liquide (2) et neutralise une solution de gravure dans ledit réservoir (2), de sorte à réduire la température à l'intérieur du réservoir de stockage de liquide (2). La présente invention permet de surveiller efficacement la température à l'intérieur du réservoir de stockage de liquide (2) et de la réduire en temps opportun, et elle permet d'empêcher une explosion qui serait causée par une température élevée à l'intérieur dudit réservoir (2), ce qui garantit la sécurité de production et améliore l'utilisation de production.
(ZH)本发明提供一种湿法刻蚀装置及其防爆方法,利用加热器(22)监控储液箱(2)内的温度,当储液箱(2)内的温度达到预设的温度上限时,通过控制装置(23)自动关闭加热器(22),打开腔室清洗装置(11)喷出清洗水,清洗水对刻蚀反应腔(1)进行冲洗后,回流至储液箱(2)内并与储液箱(2)内的刻蚀药液中和,使得储液箱(2)内的温度降低,能够有效监控并及时降低储液箱(2)内的温度,防止储液箱(2)内的温度过高发生爆炸,保障生产安全,提升生产稼动率。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)