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1. (WO2017192291) DUAL LOOP SUSCEPTOR TEMPERATURE CONTROL SYSTEM
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Pub. No.:    WO/2017/192291    International Application No.:    PCT/US2017/029188
Publication Date: 09.11.2017 International Filing Date: 24.04.2017
IPC:
C23C 16/458 (2006.01), C23C 16/46 (2006.01), C23C 16/52 (2006.01)
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054 (US)
Inventors: WHITE, John M.; (US)
Agent: PATTERSON, B. Todd; (US).
TABOADA, Keith; (US)
Priority Data:
15/147,908 05.05.2016 US
Title (EN) DUAL LOOP SUSCEPTOR TEMPERATURE CONTROL SYSTEM
(FR) SYSTÈME DE RÉGULATION DE TEMPÉRATURE DE SUSCEPTEUR À DOUBLE BOUCLE
Abstract: front page image
(EN)Embodiments described herein generally relate to a temperature control system for a substrate support assembly disposed in a substrate processing system. In one embodiment, a temperature control system is disclosed herein. The temperature control system includes a remote fluid source and a main frame system. The remote fluid source includes a first reservoir and a second reservoir. The main frame system includes a first fluid loop and a second fluid loop. The first fluid loop is coupled to, and configured to receive a first fluid from, the first reservoir. The second fluid loop is coupled to and configured to receive a second fluid from the second reservoir. The first proportioning valve has a first inlet in communication with the first fluid loop and a second inlet in communication with the second fluid loop. The first proportioning valve has an outlet configured to flow a third fluid.
(FR)Des modes de réalisation de la présente invention concernent généralement un système de régulation de température pour un ensemble de support de substrat disposé dans un système de traitement de substrat. Dans un mode de réalisation, l'invention concerne un système de régulation de température. Le système de régulation de température comprend une source de fluide distante et un système de cadre principal. La source de fluide distante comprend un premier réservoir et un deuxième réservoir. Le système de cadre principal comprend une première boucle de fluide et une deuxième boucle de fluide. La première boucle de fluide est couplée à, et configurée pour, recevoir un premier fluide depuis le premier réservoir. La deuxième boucle de fluide est couplée à, et configurée pour, recevoir un deuxième fluide provenant du deuxième réservoir. La première vanne de dosage comporte une première entrée en communication avec la première boucle de fluide et une deuxième entrée en communication avec la deuxième boucle de fluide. La première vanne de dosage comporte une sortie configurée pour l'écoulement d'un troisième fluide.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)