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1. (WO2017190537) MASK PLATE, MOTHER PLATES, MASK PLATE MANUFACTURING DEVICE AND METHOD, AND DISPLAY SUBSTRATE EVAPORATION SYSTEM
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Pub. No.: WO/2017/190537 International Application No.: PCT/CN2017/072223
Publication Date: 09.11.2017 International Filing Date: 23.01.2017
IPC:
C23C 14/04 (2006.01) ,C23C 14/24 (2006.01) ,H01L 51/56 (2006.01)
Applicants: BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD.[CN/CN]; No.10 Jiuxianqiao Rd., Chaoyang District Beijing 100015, CN
ORDOS YUANSHENG OPTOELECTRONICS CO., LTD.[CN/CN]; Ordos Equipment Manufacturing Base, Dongsheng District Ordos, Inner Mongolia 017020, CN
Inventors: JI, Fengli; CN
LIANG, Yinan; CN
BAI, Shanshan; CN
Agent: ZHONGZI LAW OFFICE; 7F, New Era Building, 26 Pinganli Xidajie Xicheng District Beijing 100034, CN
Priority Data:
201620398823.905.05.2016CN
Title (EN) MASK PLATE, MOTHER PLATES, MASK PLATE MANUFACTURING DEVICE AND METHOD, AND DISPLAY SUBSTRATE EVAPORATION SYSTEM
(FR) PLAQUE DE MASQUE, PLAQUES MÈRES, DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE PLAQUE DE MASQUE, ET SYSTÈME D'ÉVAPORATION DE SUBSTRAT D'AFFICHAGE
(ZH) 掩膜板、母板、掩膜板制造设备和方法及显示基板蒸镀系统
Abstract: front page image
(EN) A mask plate (100), mother plates (500, 604), a mask plate manufacturing device (600) and method, and a display substrate evaporation system. The mask plate (100) comprises graphic mask layers (104, 614) having a plurality of graphic mask blocks (104-1 to 104-10, 300) spaced apart from one another and arranged in parallel, and cover mask layers (106, 612) having a plurality of cover mask blocks (106-1 to 106-10) spaced apart from one another and arranged in parallel. The cover mask blocks (106-1 to 106-10) cover a gap between adjacent graphic mask blocks (104-1 to 104-10, 300). The graphic mask blocks (104-1 to 104-10, 300) comprise a valid region (302), an invalid region (306) and a margin region (304) located between the valid region (302) and the invalid region (306). The valid region (302), the invalid region (306) and the margin region (304) all have a plurality of pixel shaping openings, and the cover mask blocks (106-1 to 106-10) further cover the pixel shaping openings of the invalid regions (306) of adjacent graphic mask blocks (104-1 to 104-10, 300). The mother plates (500, 604) are used for performing positioning during the process of manufacturing the mask plate (100). The mask plate manufacturing device (600) comprises the mother plates (500, 604), a base (602), a screen stretching machine (606) and a welding machine (608). The display substrate evaporation system comprises an evaporator and the mask plate (100).
(FR) Cette invention concerne une plaque de masque (100), des plaques mères (500, 604), un dispositif de fabrication de plaque de masque (600) et un procédé, et un système d'évaporation de substrat d'affichage. La plaque de masque (100) comprend des couches de masque graphique (104, 614) possédant une pluralité de blocs de masque graphique (104-1 à 104-10, 300) espacés les uns des autres et agencés en parallèle, et des couches de masque de couverture (106, 612) possédant une pluralité de blocs de masque de couverture (106-1 à 610-10) espacés les uns des autres et disposés en parallèle. Les blocs de masque de couverture (106-1 à 106-10) recouvrent un espace entre blocs de masque graphique adjacents (104-1 à 104-10, 300). Les blocs de masque graphique (104-1 à 104-10, 300) comprennent une région valide (302), une région non valide (306) et une région de marge (304) disposée entre la région valide (302) et la région non valide (306). La région valide (302), la région non valide (306) et la région de marge (304) possèdent toutes une pluralité d'ouvertures de mise en forme de pixels, et les blocs de masque de couverture (106-1 à 106-10) recouvrent en outre les ouvertures de mise en forme de pixels des régions non valides (306) des blocs de masque graphique adjacents (104-1 à 104-10, 300). Les plaques mères (500, 604) sont utilisées pour effectuer le positionnement pendant le processus de fabrication de la plaque de masque (100). Le dispositif de fabrication de plaques de masque (600) comprend les plaques mères (500, 604), une base (602), une machine d'étirement d'écran (606) et une machine de soudage (608). Le système d'évaporation de substrat d'affichage comprend un évaporateur et la plaque de masque (100).
(ZH) 掩膜板(100)、母板(500,604)、掩膜板制造设备(600)和方法及显示基板蒸镀系统。掩膜板(100)包括具有多个相互隔开且并行排列的图形掩膜块(104-1至104-10,300)的图形掩膜层(104,614),和具有多个相互隔开且并行排列的覆盖掩膜块(106-1至106-10)的覆盖掩膜层(106,612),覆盖掩膜块(106-1至106-10)覆盖相邻的图形掩膜块(104-1至104-10,300)之间的间隙;图形掩膜块(104-1至104-10,300)包括有效区(302)、非有效区(306)以及位于有效区(302)和非有效区(306)之间的裕量区(304);有效区(302)、非有效区(306)和裕量区(304)均具有多个像素成形开口,并且覆盖掩膜块(106-1至106-10)还覆盖相邻的图形掩膜块(104-1至104-10,300)的非有效区(306)的像素成形开口。母板(500,604)用于在制造掩膜板(100)的过程中进行定位。掩膜板制造设备(600)包括母板(500,604)、基台(602)、张网机(606)和焊接机(608)。显示基板蒸镀系统包括蒸镀机和掩膜板(100)。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)