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1. (WO2017189222) PLASMA REACTOR HAVING DIVIDED ELECTRODES
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Pub. No.:    WO/2017/189222    International Application No.:    PCT/US2017/026987
Publication Date: 02.11.2017 International Filing Date: 11.04.2017
IPC:
C23C 14/35 (2006.01), C23F 1/00 (2006.01), H01J 37/32 (2006.01)
Applicants: RETRO-SEMI TECHNOLOGIES, LLC [US/US]; 100 Cummings Center Suite 324-J Beverly, MA 01915 (US)
Inventors: KIM, Dong-Soo; (KR).
JOO, Min-Su; (KR)
Agent: MORIARTY, Gordon, R.; (US).
MORIARTY, Gordon, R.; (US).
OCHOA, Ricardo; (US).
SCHURGIN, Staney, M.; (US).
GOUGES, D'agincourt, Carolyn; (US)
Priority Data:
62/329,492 29.04.2016 US
Title (EN) PLASMA REACTOR HAVING DIVIDED ELECTRODES
(FR) RÉACTEUR À PLASMA À ÉLECTRODES DIVISÉES
Abstract: front page image
(EN)A plasma reactor for generating a plasma for use in depositing a thin film on a large area wafer, such as in the manufacturing of solar cells. A plasma electrode unit in the plasma reactor is divided into a plurality of discrete electrodes, and RF electric power is sequentially applied to the divided plasma electrodes in accordance with a predefined sequence of temporal intervals as controlled by a sequence control unit. The sequential application of RF power across the divided plasma electrode unit resolves a standing wave problem in the plasma applied over a large area corresponding to a large area wafer.
(FR)L'invention concerne un réacteur à plasma destiné à générer un plasma destiné à être utilisé dans le dépôt d'un film mince sur une tranche de grande surface, par exemple pour la fabrication de cellules solaires. Une unité électrode à plasma dans le réacteur à plasma est divisée en une pluralité d'électrodes distinctes, et une puissance électrique RF est appliquée de manière séquentielle aux électrodes à plasma divisées conformément à une séquence prédéfinie d'intervalles temporels qui est commandée par une unité de commande de séquence. L'application séquentielle de puissance RF à travers l'unité électrode à plasma divisée résout un problème d'onde stationnaire dans le plasma appliqué sur une grande surface correspondant à une tranche de grande surface.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)