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1. (WO2017188216) FILM FOR FORMING PROTECTIVE COAT AND COMPOSITE SHEET FOR FORMING PROTECTIVE COAT
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Pub. No.:    WO/2017/188216    International Application No.:    PCT/JP2017/016285
Publication Date: 02.11.2017 International Filing Date: 25.04.2017
IPC:
C08J 5/18 (2006.01), B32B 7/02 (2006.01), B32B 27/18 (2006.01), C09J 7/00 (2006.01), H01L 21/301 (2006.01), H01L 23/00 (2006.01)
Applicants: LINTEC CORPORATION [JP/JP]; 23-23, Honcho, Itabashi-ku, Tokyo 1730001 (JP)
Inventors: YAMAMOTO Daisuke; (JP).
INAO Youichi; (JP)
Agent: SHIGA Masatake; (JP).
TAKAHASHI Norio; (JP).
IGARASHI Koei; (JP)
Priority Data:
2016-092101 28.04.2016 JP
Title (EN) FILM FOR FORMING PROTECTIVE COAT AND COMPOSITE SHEET FOR FORMING PROTECTIVE COAT
(FR) FILM DESTINÉ À LA FORMATION D’UN REVÊTEMENT PROTECTEUR ET FEUILLE COMPOSITE DESTINÉE À LA FORMATION D’UN REVÊTEMENT PROTECTEUR
(JA) 保護膜形成用フィルムおよび保護膜形成用複合シート
Abstract: front page image
(EN)Provided are a film for forming a protective coat and a composite sheet for forming a protective coat that are able to prevent a semiconductor chip from taking on a charge. An energy ray-curable film for forming a protective coat, wherein when the film for forming a protective coat has been irradiated with energy rays and cured, the surface resistivity thereof is 1012Ω∙cm or less. The film for forming a protective coat preferably includes an antistatic agent, and the antistatic agent is preferably at least one type of agent selected from the group consisting of anionic surfactant antistatic agents, cationic surfactant antistatic agents, nonionic surfactant antistatic agents, and amphoteric surfactant antistatic agents.
(FR)La présente invention décrit un film destiné à la formation d’un revêtement protecteur et une feuille composite destinée à la formation d’un revêtement protecteur, permettant d’empêcher une puce semi-conductrice de prendre une charge. L'invention concerne également un film durcissable par rayonnement d’énergie destiné à la formation d’un revêtement protecteur. Lorsque le film destiné à la formation d’un revêtement protecteur a été exposé à un rayonnement des rayons d’énergie et durci, sa résistivité de surface est de 1012Ω•cm ou moins. Le film destiné à la formation d’un revêtement protecteur comprend de préférence un agent antistatique, et l’agent antistatique est de préférence au moins un type d’agent sélectionné dans le groupe constitué des agents antistatiques tensioactifs anioniques, des agents antistatiques tensioactifs cationiques, des agents antistatiques tensioactifs non ioniques, et des agents antistatiques tensioactifs amphotères.
(JA)半導体チップが帯電することを防止し得る保護膜形成用フィルムおよび保護膜形成用複合シートを提供する。エネルギー線硬化性の保護膜形成用フィルムであって、前記保護膜形成用フィルムは、エネルギー線を照射して硬化させたとき、表面抵抗率が1012Ω・cm以下とする。前記保護膜形成用フィルムは、帯電防止剤を含むことが好ましく、前記帯電防止剤が、アニオン系界面活性剤系帯電防止剤、カチオン系界面活性剤系帯電防止剤、ノニオン系界面活性剤系帯電防止剤、両イオン系界面活性剤系帯電防止剤、および、非イオン系界面活性剤系帯電防止剤からなる群から選択される少なくとも1種であることが好ましい。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)