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1. (WO2017188204) METHOD AND DEVICE FOR MANUFACTURING INTERCALATION SUBSTANCE, AND METHOD AND DEVICE FOR MANUFACTURING ION EXCHANGE SUBSTANCE
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Pub. No.: WO/2017/188204 International Application No.: PCT/JP2017/016263
Publication Date: 02.11.2017 International Filing Date: 25.04.2017
Chapter 2 Demand Filed: 14.12.2017
IPC:
C01G 1/00 (2006.01) ,C01G 31/00 (2006.01) ,C01G 33/00 (2006.01) ,C01G 35/00 (2006.01) ,H01M 4/58 (2010.01)
Applicants: NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION HOKKAIDO UNIVERSITY[JP/JP]; Kita 8-jyo Nishi 5-chome, Kita-ku, Sapporo-shi, Hokkaido 0600808, JP
Inventors: FUJIOKA Masaya; JP
NISHII Junji; JP
KAIJU Hideo; JP
Agent: MORI Koh-ichi; JP
Priority Data:
2016-08999328.04.2016JP
2016-20476619.10.2016JP
Title (EN) METHOD AND DEVICE FOR MANUFACTURING INTERCALATION SUBSTANCE, AND METHOD AND DEVICE FOR MANUFACTURING ION EXCHANGE SUBSTANCE
(FR) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF DE FABRICATION D'UN COMPOSÉ D'INTERCALATION AINSI QUE PROCÉDÉ ET DISPOSITIF DE FABRICATION D'UN COMPOSÉ D'ÉCHANGE D'IONS
(JA) インターカレーション物質の製造方法および製造装置ならびにイオン置換物質の製造方法および製造装置
Abstract: front page image
(EN) In the method for manufacturing an intercalation substance according to the present invention, a first ion source 20 including first ions not forming the skeleton of a structure and a first processing object 10 as a host are alternately layered or placed facing each other. Second ions having the same sign as the first ions are injected into the first ion source 20 from the reverse side thereof from the first processing object 10, whereby the first ions included in the first ion source 20 are moved as guests to the first processing object 10 and intercalation is performed. For example, the first processing object 10 is TaS2, the first ion source 20 is a glass substrate, the first ions are Li+ or other alkali metal ions, and the second ions are protons.
(FR) La présente invention concerne un procédé de fabrication d'un composé d'intercalation. Selon ce procédé, une première source d'ions (20) comprenant des premiers ions ne formant pas de squelette d'une structure et un premier objet de traitement (10) en tant qu'hôte sont alternativement disposés en couches ou placés l'une en face de l'autre. Des deuxièmes ions, dotés du même signe que les premiers ions, sont injectés dans la première source d'ions (20) du côté à l'envers de cette dernière, à partir du premier objet de traitement (10), les premiers ions inclus dans la première source d'ions (20) étant déplacés en tant qu'invités vers le premier objet de traitement (10), l'intercalation étant effectuée. À titre illustratif, le premier objet de traitement (10) est un TaS(2), la première source d'ions (20) est un substrat en verre, les premiers ions sont des Li(+) ou des autres ions de métaux alcalins et les deuxièmes ions sont des protons.
(JA) インターカレーション物質の製造方法では、構造の骨格を形成していない第1のイオンを含む第1のイオン源20とホストとなる第1の被処理体10とを互いに積層または対向させる。第1の被処理体10と反対側から第1のイオン源20に第1のイオンと同符号の第2のイオンを注入することにより、第1のイオン源20に含まれる第1のイオンをゲストとして第1の被処理体10に移動させてインターカレーションを行う。例えば、第1の被処理体10はTaS2 、第1のイオン源20はガラス基板、第1のイオンはLi+ 等のアルカリ金属イオン、第2のイオンはプロトンである。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)