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1. (WO2017188170) FILM FORMATION MASK AND FILM FORMATION METHOD
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Pub. No.:    WO/2017/188170    International Application No.:    PCT/JP2017/016144
Publication Date: 02.11.2017 International Filing Date: 24.04.2017
IPC:
C23C 16/04 (2006.01), C23C 14/04 (2006.01), H05H 1/46 (2006.01)
Applicants: ULVAC, INC. [JP/JP]; 2500 Hagisono, Chigasaki-shi, Kanagawa 2538543 (JP)
Inventors: FUJII, Gen; (JP).
ETOU, Kenji; (JP).
ABE, Youichi; (JP).
JINBO, Yousuke; (JP)
Agent: OMORI, Junichi; (JP)
Priority Data:
2016-090477 28.04.2016 JP
Title (EN) FILM FORMATION MASK AND FILM FORMATION METHOD
(FR) MASQUE DE FORMATION DE FILM ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM
(JA) 成膜用マスク及び成膜装置
Abstract: front page image
(EN)The film formation mask pertaining to an embodiment of the present invention is provided with a pair of first plate parts and a pair of second plate parts. The pair of first plate parts has a pair of first inner peripheral edge parts and a pair of first outer peripheral edge parts. The first inner peripheral edge parts in the pair thereof each have first curved parts which face each other in a first axial direction and which are shaped so as to protrude in the direction of separation from each other. The pair of first outer peripheral edge parts faces the pair of first inner peripheral edge parts, respectively, in the first axial direction. The pair of second plate parts has a pair of second inner peripheral edge parts and a pair of second outer peripheral edge parts. The second inner peripheral edge parts in the pair thereof each have second curved parts which face each other in a second axial direction and which are shaped so as to protrude in the direction of separation from each other. The pair of second outer peripheral edge parts faces the pair of second inner peripheral edge parts, respectively, in the second axial direction.
(FR)Selon un mode de réalisation de la présente invention, un masque de formation de film est pourvu d'une paire de premières parties de plaque et d'une paire de secondes parties de plaque. La paire de premières parties de plaque comporte une paire de premières parties de bord périphériques internes et une paire de premières parties de bord périphérique externe. Les premières parties de bord périphériques internes dans leur paire ont chacune de premières parties incurvées qui se font face dans une première direction axiale et qui sont façonnées de façon à faire saillie dans la direction de séparation l'une de l'autre. La paire de premières parties de bord périphérique externe fait face, respectivement, à la paire de premières parties de bord périphérique interne dans la première direction axiale. La paire de secondes parties de plaque comporte une paire de secondes parties de bord périphérique interne et une paire de secondes parties de bord périphérique externe. Les secondes parties de bord périphérique interne dans leur paire ont chacune de secondes parties incurvées qui se font face dans une seconde direction axiale et qui sont façonnées de façon à faire saillie dans la direction de séparation l'une de l'autre. La paire de secondes parties de bord périphérique externe fait face, respectivement, à la paire de secondes parties de bord périphérique interne, dans la seconde direction axiale.
(JA)本発明の一形態に係る成膜用マスクは、一対の第1の板部と、一対の第2の板部とを具備する。上記一対の第1の板部は、一対の第1の内周縁部と、一対の第1の外周縁部とを有する。上記一対の第1の内周縁部は、第1の軸方向に対向し、互いに離間する方向に向かって凸なる形状の第1の湾曲部をそれぞれ有する。上記一対の第1の外周縁部は、上記一対の第1の内周縁部と上記第1の軸向にそれぞれ対向する。上記一対の第2の板部は、一対の第2の内周縁部と、一対の第2の外周縁部とを有する。上記一対の第2の内周縁部は、上記第2の軸方向に対向し、互いに離間する方向に向かって凸なる形状の第2の湾曲部をそれぞれ有する。上記一対の第2の外周縁部は、上記一対の第2の内周縁部と上記第2の軸方向にそれぞれ対向する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)