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Pub. No.: WO/2017/187593 International Application No.: PCT/JP2016/063337
Publication Date: 02.11.2017 International Filing Date: 28.04.2016
A61N 5/10 (2006.01)
Applicants: MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION[JP/JP]; 7-3, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008310, JP
Inventors: HANAKAWA Kazushi; JP
Agent: OIWA Masuo; JP
Priority Data:
(JA) 粒子線治療装置
Abstract: front page image
(EN) In the present invention, the beam diameter of a charged-particle beam is reduced by quadrupole electromagnets 2g, 2h, 2i to a diameter less than a target beam diameter in accordance with a predetermined beam diameter reduction coefficient c, after which the beam diameter of the charged-particle beam reduced in diameter to a diameter less than the target beam diameter is enlarged to the target beam diameter using a scatterer 8 provided downstream from scanning electromagnets 7a, 7b, and the beam diameter is thereby conveniently stabilized.
(FR) La présente invention a trait à un dispositif de traitement par particules, dispositif selon lequel le diamètre de faisceau d’un faisceau de particules chargées est réduit par des électro-aimants quadripolaires (2g, 2h, 2i) à un diamètre inférieur à un diamètre de faisceau cible selon un coefficient de réduction du diamètre de faisceau prédéterminé (c), après quoi le diamètre de faisceau du faisceau de particules chargées réduit en diamètre jusqu’à un diamètre inférieur au diamètre du faisceau cible est élargi au diamètre du faisceau cible à l'aide d'un diffuseur (8) prévu en aval des électro-aimants de balayage (7a, 7b), et le diamètre de faisceau est ainsi stabilisé de manière pratique.
(JA)  四極電磁石2g、2h、2iにより荷電粒子ビームのビーム径を、所定のビーム径絞り係数cに従って、目標のビーム径よりも小さく絞った後、スキャニング電磁石7a、7bの下流側に備えた散乱体8を用いて、目標のビーム径よりも小さく絞った荷電粒子ビームのビーム径を目標のビーム径まで拡大することで、簡便にビーム径を安定化させる。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)