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1. (WO2017187548) CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE
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Pub. No.:    WO/2017/187548    International Application No.:    PCT/JP2016/063177
Publication Date: 02.11.2017 International Filing Date: 27.04.2016
IPC:
H01J 37/28 (2006.01), G01N 23/225 (2006.01)
Applicants: HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717 (JP)
Inventors: TSUNO Natsuki; (JP).
SUZUKI Naomasa; (JP).
OKITA Atsushi; (JP).
FUKUDA Muneyuki; (JP)
Agent: POLAIRE I.P.C.; 13-11, Nihonbashikayabacho 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1030025 (JP)
Priority Data:
Title (EN) CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE
(FR) DISPOSITIF À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES
(JA) 荷電粒子線装置
Abstract: front page image
(EN)In order to provide a charged particle beam device capable of superficial and internal low-damage observation and evaluation of a sample, this charged particle beam device comprises: a charged particle beam source (102); a sample stage (109) for carrying a sample (210); charged particle beam optics whereby a charged particle beam (100) is pulsed and irradiated onto the sample at an acceleration voltage within a range of 0 kV exclusive to 5 kV inclusive; a split distance selection unit (125) for selecting a measurement target on the sample; and a split distance setting unit (124) for setting a split distance L to be used during one line scanning of the charged particle beam (100) over the sample (210).
(FR)L'invention concerne la mise en œuvre d'un dispositif à faisceau de particules chargées capable d'une observation superficielle et interne à faible endommagement et d'une évaluation d'un échantillon, ce dispositif à faisceau de particules chargées comporte : une source de faisceau de particules chargées (102) ; un étage d'échantillon (109) destiné à transporter un échantillon (210) ; un système optique à faisceau de particules chargées, ce par quoi un faisceau de particules chargées (100) est pulsé et irradié sur l'échantillon à une tension d'accélération comprise dans une plage allant de 0 kV exclu à 5 kV inclus ; une unité de sélection de distance de division (125) servant à sélectionner une cible de mesure sur l'échantillon ; et une unité de réglage de distance de division (124) servant à régler une distance de division L à utiliser pendant un balayage de ligne du faisceau de particules chargées (100) sur l'échantillon (210).
(JA)低ダメージで試料の表面および内部の観察・評価が可能な荷電粒子線装置を提供するために,荷電粒子線源(102)と,試料(210)を載置する試料台(109)と,荷電粒子線(100)をパルス化し,0kVを超え5kV以下の範囲内の加速電圧で試料に照射する荷電粒子線光学系と,試料の測定対象を選択するスプリット距離選択部(125)と,荷電粒子線(100)の試料(210)上での1回のライン走査中のスプリット距離Lを設定するスプリット距離設定部(124)と,を備える荷電粒子線装置とする。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)