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1. (WO2017186439) OPTICAL ELEMENT AND OPTICAL ASSEMBLY COMPRISING SAME
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Pub. No.:    WO/2017/186439    International Application No.:    PCT/EP2017/057277
Publication Date: 02.11.2017 International Filing Date: 28.03.2017
IPC:
G02B 1/16 (2015.01), G21K 1/06 (2006.01), G02B 5/08 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen (DE)
Inventors: GRASSE, Christian; (DE).
DIER, Oliver; (DE).
WEBER, Jörn; (DE).
WINTER, Ralf; (DE)
Agent: KOHLER SCHMID MÖBUS PATENTANWÄLTE PARTNERSCHAFTSGESELLSCHAFT MBB; Gropiusplatz 10 70563 Stuttgart (DE)
Priority Data:
10 2016 207 307.9 28.04.2016 DE
Title (DE) OPTISCHES ELEMENT UND OPTISCHE ANORDNUNG DAMIT
(EN) OPTICAL ELEMENT AND OPTICAL ASSEMBLY COMPRISING SAME
(FR) ÉLÉMENT OPTIQUE ET SYSTÈME OPTIQUE COMPORTANT CET ÉLÉMENT
Abstract: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein optisches Element (14), insbesondere für die EUV-Lithographie, umfassend: ein Substrat (15), eine auf das Substrat (15) aufgebrachte reflektierende Beschichtung (16), sowie eine sich zwischen dem Substrat (15) und der reflektierenden Beschichtung (16) erstreckende elektrisch leitende Beschichtung (19), die mindestens eine erste, unter Zugspannung stehende Schicht (22a) und mindestens eine zweite, unter Druckspannung stehende Schicht (22b) aufweist. Die elektrisch leitende Beschichtung (19) weist mindestens einen Abschnitt (20) auf, der sich an dem Substrat (15) seitlich über die reflektierende Beschichtung (16) hinaus erstreckt. Die Erfindung betrifft auch eine optische Anordnung, insbesondere ein EUV-Lithographiesystem, mit mindestens einem solchen optischen Element (14).
(EN)The invention relates to an optical element (14), in particular for EUV lithography, comprising a substrate (15), a reflective coating (16) applied to the substrate (15), and an electrically conductive coating (19) extending between the substrate (15) and the reflective coating (16), and having at least one first layer (22a) under tensile stress and at least one second layer (22b) under compressive stress. The electrically conductive coating (19) has at least one section (20) that extends laterally beyond the reflective coating (16) on the substrate (15). The invention also relates to an optical assembly, in particular an EUV lithography system, comprising at least one optical element (14) of this type.
(FR)L'invention concerne un élément optique (14), destiné en particulier à la lithographie EUV, comprenant un substrat (15), un revêtement réfléchissant (16) appliqué sur le substrat (15), et un revêtement électriquement conducteur (19) qui s’étend entre le substrat (15) et le revêtement réfléchissant (16) et qui comporte au moins une première couche (22a) sous contrainte de traction et au moins une seconde couche (22b) sous contrainte de pression. Le revêtement électroconducteur (19) présente au moins une partie (20) qui s’étend latéralement sur le substrat (15) au-delà du revêtement réfléchissant (16) . L'invention concerne également un système optique, en particulier un système de lithographie EUV comportant au moins un tel élément optique (14).
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)